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1. (WO2018026251) PROCÉDÉ ET APPAREIL DE NETTOYAGE D'UNE TRANCHE DE SEMI-CONDUCTEUR

Pub. No.:    WO/2018/026251    International Application No.:    PCT/KR2017/008515
Publication Date: Fri Feb 09 00:59:59 CET 2018 International Filing Date: Tue Aug 08 01:59:59 CEST 2017
IPC: H01L 21/02
H01L 21/324
H01L 33/00
H01L 21/67
Applicants: MUJIN ELECTRONICS CO., LTD.
무진전자 주식회사
Inventors: LEE, Gil Gwang
이길광
YOON, Yong Hyeock
윤용혁
Title: PROCÉDÉ ET APPAREIL DE NETTOYAGE D'UNE TRANCHE DE SEMI-CONDUCTEUR
Abstract:
La présente invention concerne un procédé de nettoyage d'une tranche de semi-conducteur, comprenant les étapes consistant à : préparer une tranche ; nettoyer à sec la tranche ; et nettoyer par voie humide la tranche, la tranche étant chauffée pendant l'étape de nettoyage par voie humide de la tranche.