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1. (WO2018025882) PROCÉDÉ DE LIBÉRATION D'ALDÉHYDE OU DE CÉTONE INSATURÉ(E)
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N° de publication :    WO/2018/025882    N° de la demande internationale :    PCT/JP2017/027948
Date de publication : 08.02.2018 Date de dépôt international : 01.08.2017
CIB :
C11B 9/00 (2006.01), A61K 8/35 (2006.01), A61K 8/58 (2006.01), A61Q 5/00 (2006.01), A61Q 13/00 (2006.01), A61Q 19/00 (2006.01), C11D 3/50 (2006.01)
Déposants : TAKASAGO INTERNATIONAL CORPORATION [JP/JP]; 37-1, Kamata 5-chome, Ota-ku, Tokyo 1448721 (JP)
Inventeurs : YAMADA Shinya; (JP).
HATAKEYAMA Tadahide; (JP).
NARA Hideki; (JP).
ISHIKAWA Takahiro; (JP)
Mandataire : EIKOH PATENT FIRM, P.C.; Toranomon East Bldg. 10F, 7-13, Nishi-Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1050003 (JP)
Données relatives à la priorité :
2016-151468 01.08.2016 JP
Titre (EN) METHOD FOR RELEASING UNSATURATED ALDEHYDE OR KETONE
(FR) PROCÉDÉ DE LIBÉRATION D'ALDÉHYDE OU DE CÉTONE INSATURÉ(E)
(JA) 不飽和アルデヒドまたはケトンを放出する方法
Abrégé : front page image
(EN)The present invention pertains to a method which uses a compound represented by general formula (1) as a fragrance precursor, wherein the compound represented by general formula (1) is irradiated with light to release an unsaturated aldehyde or ketone represented by general formula (2). (In formulae (1) and (2), R1-R8 and wavy lines are each as defined in the description. R1 and R2, R1 and R3, R1 and R4, R1 and R5, R3 and R4, or R3 and R5 may form a ring.)
(FR)La présente invention concerne un procédé qui utilise un composé représenté par la formule générale (1) comme précurseur de parfum, le composé représenté par la formule générale (1) étant exposé à un rayonnement lumineux pour libérer un aldéhyde ou une cétone insaturé(e) représenté(e) par la formule générale (2). (Dans les formules (1) et (2), les R1-R8 et les lignes ondulées sont chacun tels que définis dans la description. Les R1 et R2, R1 et R3, R1 et R4, R1 et R5, R3 et R4, ou R3 et R5 peuvent former un cycle).
(JA)本発明は、一般式(1)で表される化合物を香料前駆体として使用する方法であって、一般式(1)で表される化合物に光照射して一般式(2)で表される不飽和アルデヒドまたはケトンを放出させる方法に関する。(式(1)及び式(2)中、R~R及び波線は、それぞれ、明細書中に記載された定義と同様である。また、RとR、RとR、RとR、RとR、RとR、又はRとRとで環を形成してもよい。)
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)