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1. (WO2018025828) COPOLYMÈRE SÉQUENCÉ, STRUCTURE MULTICOUCHE, FILM POLYMÈRE SOLIDE, PILE À COMBUSTIBLE, PROCÉDÉ DE PRODUCTION POUR STRUCTURE MULTICOUCHE ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE STRUCTURE MULTICOUCHE CONTENANT DES NANOPARTICULES INORGANIQUES
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N° de publication :    WO/2018/025828    N° de la demande internationale :    PCT/JP2017/027793
Date de publication : 08.02.2018 Date de dépôt international : 01.08.2017
CIB :
C08F 297/00 (2006.01), H01M 8/02 (2016.01), H01M 8/10 (2016.01)
Déposants : JAPAN SCIENCE AND TECHNOLOGY AGENCY [JP/JP]; 4-1-8, Hon-cho, Kawaguchi-shi, Saitama 3320012 (JP)
Inventeurs : YABU Hiroshi; (JP)
Mandataire : MATSUMOTO Seiji; (JP)
Données relatives à la priorité :
2016-154294 05.08.2016 JP
Titre (EN) BLOCK COPOLYMER, MULTILAYER STRUCTURE, SOLID POLYMER FILM, FUEL CELL, PRODUCTION METHOD FOR MULTILAYER STRUCTURE, AND PRODUCTION METHOD FOR MULTILAYER STRUCTURE CONTAINING INORGANIC NANOPARTICLES
(FR) COPOLYMÈRE SÉQUENCÉ, STRUCTURE MULTICOUCHE, FILM POLYMÈRE SOLIDE, PILE À COMBUSTIBLE, PROCÉDÉ DE PRODUCTION POUR STRUCTURE MULTICOUCHE ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE STRUCTURE MULTICOUCHE CONTENANT DES NANOPARTICULES INORGANIQUES
(JA) ブロック共重合体、多層構造体、固体高分子膜、燃料電池、多層構造体の製造方法、及び無機ナノ粒子を含む多層構造体の製造方法
Abrégé : front page image
(EN)The present invention addresses the problem of providing a block copolymer which can be used in a neutral solvent atmosphere and can be used to produce a solid polymer film containing nanoparticles. The problem can be solved by a block copolymer represented by formula (1). (R1 represents a linear, branched, or cyclic alkyl group having 1-20 carbon atoms, an aryl group having 6-20 carbon atoms, or an aralkyl group having 7-20 carbon atoms. R2 represents a group having a functional group having an acid dissociation constant pKa of 0.5-7. R3, R4, and R5 each represent H or a linear, branched, or cyclic alkyl group having 1-20 carbon atoms. R6, R7, and R8 each represent hydrogen, a hydroxy group, a nitro group, a carboxy group, or a carbonyl group. X represents an amide or an ester, but does not have to be contained. Y represents an amide or an ester, but does not have to be contained. p represents an integer of 1-10, but does not have to be contained. n represents an integer of 3-1000, m represents an integer of 3-1000, and t represents an integer of 3-1000, but n does not have to be contained. n, m, and t may be arranged in any order, and when n is contained, n and m are arranged adjacent to each other.)
(FR)Le problème à la base de la présente invention est de fournir un copolymère séquencé qui peut être utilisé dans une atmosphère de solvant neutre et qui peut être utilisé pour produire un film polymère solide contenant des nanoparticules. Le problème peut être résolu par un copolymère séquencé représenté par la formule (1). (R1 représente un groupe alkyle linéaire, ramifié ou cyclique comprenant 1-20 atomes de carbone, un groupe aryle comprenant 6-20 atomes de carbone ou un groupe aralkyle comprenant 7 à 20 atomes de carbone. R2 représente un groupe comprenant un groupe fonctionnel présentant une constante de dissociation acide pKa de 0,5-7. R3, R4 et R5 représentent, chacun, H ou un groupe alkyle linéaire, ramifié ou cyclique comprenant 1-20 atomes de carbone. R6, R7 et R8 représentent, chacun, hydrogène, un groupe hydroxy, un groupe nitro, un groupe carboxy ou un groupe carbonyle. X représente un amide ou un ester, mais ne doit pas nécessairement être contenu. Y représente un amide ou un ester, mais ne doit pas nécessairement être contenu. P représente un nombre entier de 1-10, mais ne doit pas nécessairement être contenu. n représente un entier de 3-1000, m représente un entier de 3-1000 et t représente un entier de 3-1000, mais n ne doit pas nécessairement être contenu. n, m et t peuvent être agencés dans n'importe quel ordre, et lorsque n est contenu, n et m sont agencés de manière adjacente l'un à l'autre.)
(JA)中性溶媒雰囲気で使用でき、且つナノ粒子を含んだ固体高分子膜を作製できるブロック共重合体を提供することを課題とする。 下記式(1)で表されるブロック共重合体で課題を解決できる。 (R1は炭素数1~20の直鎖状、分岐状あるいは環状アルキル基、炭素数6~20のアリール基、又は炭素数7~20のアラルキル基を表す。R2は酸解離定数pKaが0.5以上、7以下の官能基を有する基を表す。R、R4及びR5は、それぞれ、H又は炭素数1~20の直鎖状、分岐状あるいは環状アルキル基を示す。R6、R7及びR8は、それぞれ、水素、水酸基、ニトロ基、カルボキシ基、カルボニル基を表す。Xは、アミド又はエステルを表すが、含まれていなくてもよい。Yは、アミド又はエステルを表すが、含まれていなくてもよい。pは1~10の整数を表すが、含まれていなくてもよい。nは3~1000の整数、mは3~1000の整数、tは3~1000の整数を表すが、nは含まれていなくてもよい。n,m,tの並びは任意でよいが、nが含まれる場合は、n及びmは隣接する。)
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)