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1. (WO2018025738) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE, FILM DURCI, STRATIFIÉ, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE FILM DURCI, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE STRATIFIÉ ET DISPOSITIF À SEMI-CONDUCTEUR
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N° de publication :    WO/2018/025738    N° de la demande internationale :    PCT/JP2017/027196
Date de publication : 08.02.2018 Date de dépôt international : 27.07.2017
CIB :
G03F 7/037 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/027 (2006.01), G03F 7/029 (2006.01)
Déposants : FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620 (JP)
Inventeurs : IWAI Yu; (JP).
VANCLOOSTER Stefan; (BE).
JANSSEN Dimitri; (BE).
BAERT Kasper; (BE)
Mandataire : SIKS & CO.; 8th Floor, Kyobashi-Nisshoku Bldg., 8-7, Kyobashi 1-chome, Chuo-ku, Tokyo 1040031 (JP)
Données relatives à la priorité :
2016-151553 01.08.2016 JP
2016-256607 28.12.2016 JP
Titre (EN) PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, CURED FILM, LAMINATE, METHOD FOR PRODUCING CURED FILM, METHOD FOR PRODUCING LAMINATE, AND SEMICONDUCTOR DEVICE
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE, FILM DURCI, STRATIFIÉ, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE FILM DURCI, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE STRATIFIÉ ET DISPOSITIF À SEMI-CONDUCTEUR
(JA) 感光性樹脂組成物、硬化膜、積層体、硬化膜の製造方法、積層体の製造方法および半導体デバイス
Abrégé : front page image
(EN)Provided are: a photosensitive resin composition which can ring-close at a high ring-closing rate even at a lower temperature and can be cured into a cured film having a high glass transition temperature; and a cured film, a laminate, a method for producing a cured film, a method for producing a laminate, and a semiconductor device, in each of which the photosensitive resin composition is used. A photosensitive resin composition comprising a polymer precursor containing a heterocyclic ring, a thermobase generator, and an organic compound containing a Group-IV element.
(FR)Cette invention concerne : une composition de résine photosensible qui atteint une fermeture de cycle à une vitesse de fermeture de cycle élevée même à basse température et peut être durcie en un film durci ayant une température de transition vitreuse élevée ; et un film durci, un stratifié, un procédé de production d'un film durci, un procédé de production d'un stratifié, et un dispositif à semi-conducteur, dans chacun desquels est utilisée la composition de résine photosensible. L'invention concerne en outre une composition de résine photosensible comprenant un précurseur de polymère contenant un anneau hétérocyclique, un générateur de thermobase et un composé organique contenant un élément du groupe IV.
(JA)低温でも高い閉環率で閉環が可能な感光性樹脂組成物であって、上記感光性樹脂組成物を硬化して得られる硬化膜のガラス転移温度が高い感光性樹脂組成物、ならびに、上記感光性樹脂組成物を用いた、硬化膜、積層体、硬化膜の製造方法、積層体の製造方法および半導体デバイスの提供。複素環含有ポリマー前駆体と、熱塩基発生剤と、第4族元素を含む有機化合物を含む感光性樹脂組成物。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)