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1. (WO2018025592) APPAREIL ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UNE EAU ALCALINE SERVANT AU NETTOYAGE DE DISPOSITIFS ÉLECTRONIQUES
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N° de publication :    WO/2018/025592    N° de la demande internationale :    PCT/JP2017/025209
Date de publication : 08.02.2018 Date de dépôt international : 11.07.2017
CIB :
H01L 21/304 (2006.01), B01D 61/00 (2006.01), B01D 71/26 (2006.01), B01D 71/34 (2006.01), B01F 1/00 (2006.01), C02F 1/20 (2006.01), C02F 1/68 (2006.01), C02F 1/78 (2006.01)
Déposants : NOMURA MICRO SCIENCE CO., LTD. [JP/JP]; 2-9-8, Okada, Atsugi-shi, Kanagawa 2430021 (JP)
Inventeurs : JIZAIMARU Takayuki; (JP)
Mandataire : SAKURA PATENT OFFICE, P.C.; Yoshizawa Bldg., 18-14, Uchikanda 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010047 (JP)
Données relatives à la priorité :
2016-152139 02.08.2016 JP
Titre (EN) PRODUCTION APPARATUS AND PRODUCTION METHOD OF ALKALINE WATER FOR ELECTRONIC DEVICE CLEANING
(FR) APPAREIL ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UNE EAU ALCALINE SERVANT AU NETTOYAGE DE DISPOSITIFS ÉLECTRONIQUES
(JA) 電子デバイス洗浄用のアルカリ水の製造装置及び製造方法
Abrégé : front page image
(EN)Provided are production apparatus and production method of an alkaline water, which are capable of suppressing mixing of fine particles derived from a gas dissolving membrane device into a hydrogen water. A production apparatus of an alkaline water for electronic device cleaning, which is provided with: a pH adjusting device 11 for adjusting an ultrapure water to be alkaline; a deaeration device 13 for deaerating the ultrapure water, which has been adjusted to be alkaline; and a gas dissolving membrane device 14 for dissolving a functional gas into the deaerated ultrapure water through a gas dissolving membrane.
(FR)L'invention concerne un appareil et un procédé de production d'une eau alcaline qui permettent de supprimer le mélange de fines particules dérivées d'un dispositif à membrane de dissolution de gaz dans de l'eau hydrogénée, l'appareil de production d'eau alcaline servant au nettoyage de dispositifs électroniques étant pourvu : d'un dispositif d'ajustement de pH (11) servant à ajuster une eau ultra pure destinée à être alcaline ; d'un dispositif de désaération (13) servant à désaérer l'eau ultra pure, qui a été ajustée de façon à être alcaline ; d'un dispositif à membrane de dissolution de gaz (14 ) servant à dissoudre un gaz fonctionnel dans l'eau ultra pure désaérée par l'intermédiaire d'une membrane de dissolution de gaz.
(JA)気体溶解膜装置に由来する微粒子の水素水中への混入を抑制することができるアルカリ水の製造方法及び製造装置を提供すること。超純水をアルカリ性に調整するpH調整装置11と、アルカリ性に調整された超純水を脱気する脱気装置13と、脱気された超純水に、気体溶解膜を介して機能性ガスを溶解させる気体溶解膜装置14とを備える電子デバイス洗浄用のアルカリ水の製造装置。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)