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1. (WO2018024103) MEMBRANE D'ÉTANCHÉITÉ POUR DISPOSITIF DE PONCTION COMPRENANT UNE STRUCTURE DE RAINURE
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N° de publication :    WO/2018/024103    N° de la demande internationale :    PCT/CN2017/093602
Date de publication : 08.02.2018 Date de dépôt international : 20.07.2017
CIB :
A61B 17/34 (2006.01), A61B 17/00 (2006.01)
Déposants : 5R MED TECHNOLOGY (CHENGDU) CO., LTD [CN/CN]; 3/F Building 1, No.12 Xinchuang Road High-Tech Development West Zone Chengdu, Sichuan 610000 (CN)
Inventeurs : ZHU, Moshu; (CN)
Mandataire : CHENGDU ZHIJISHI PATENT AGENCY; LI, Weiquan Room 416, Unit 2, Building 12, No.77 Tianmu Road High-Tech Development West Zone Chengdu, Sichuan 610000 (CN)
Données relatives à la priorité :
201610622263.5 02.08.2016 CN
Titre (EN) PUNCTURE DEVICE SEALING MEMBRANE COMPRISING GROOVE STRUCTURE
(FR) MEMBRANE D'ÉTANCHÉITÉ POUR DISPOSITIF DE PONCTION COMPRENANT UNE STRUCTURE DE RAINURE
(ZH) 一种含有凹槽结构的穿刺器密封膜
Abrégé : front page image
(EN)A puncture device sealing membrane comprising a groove structure. A sealing film (130) comprises a proximal opening (132), a distal opening (133), and a sealing wall (135) extending from the distal opening (133) to the proximal opening (132). The sealing wall (135) comprises a proximal end surface and a distal end surface. The distal opening (133) is formed by a sealing lip (134), and is used for receiving a device inserted therein and forming a seal. The sealing lip (134) comprises a central axis (158) and a transverse plane (159) generally perpendicular to the axis (158). In the vicinity of the sealing lip (134), the sealing wall (135) comprises a main rotary wall (138) and a plurality of grooves (140). Each of the grooves (140) comprises two side walls (142), and the side walls (142) are areas which are defined on both sides, which extend laterally and outwardly from the sealing lip (134) and which have a gradually increasing width. The grooves (140) feature functions such as increasing a circumferential length, reducing a wrapping area, improving lubrication reliability, and increasing axial tensile rigidity, thereby greatly reducing frictional resistance and stick-slip.
(FR)L'invention concerne une membrane d'étanchéité de dispositif de ponction comprenant une structure de rainure. Un film d'étanchéité (130) comprend une ouverture proximale (132), une ouverture distale (133) et une paroi d'étanchéité (135) s'étendant depuis l'ouverture distale (133) à l'ouverture proximale (132). La paroi d'étanchéité (135) comprend une surface d'extrémité proximale et une surface d'extrémité distale. L'ouverture distale (133) est formée par une lèvre d'étanchéité (134) et est utilisée pour recevoir un dispositif introduit en son sein et former un joint d'étanchéité. La lèvre d'étanchéité (134) comprend un axe central (158) et un plan transversal (159) généralement perpendiculaire à l'axe (158). Au voisinage de la lèvre d'étanchéité (134), la paroi d'étanchéité (135) comprend une paroi rotative principale (138) et une pluralité de rainures (140). Chacune des rainures (140) comprend deux parois latérales (142) et les parois latérales (142) sont des zones qui sont définies sur les deux côtés, qui s'étendent latéralement et vers l'extérieur à partir de la lèvre d'étanchéité (134) et qui ont une largeur progressivement croissante. Les rainures (140) présentent des fonctions telles que l'augmentation de la longueur circonférentielle, la réduction d'une zone d'enveloppement, l'amélioration de la fiabilité de la lubrification et l'augmentation de la rigidité à la traction axiale, réduisant ainsi considérablement la résistance au frottement et l'adhérence-glissement.
(ZH)一种含有凹槽结构的穿刺器密封膜(130)。密封膜(130)包括近端开口(132)和远端孔(133)及从远端孔(133)延伸至近端开口(132)的密封壁(135),密封壁(135)具有近端面和远端面,远端孔(133)由密封唇(134)形成,用于容纳插入的器械并形成密封,密封唇(134)包含中心轴线(158)和大致与轴线(158)垂直的横平面(159)。在密封唇(134)临近区域,密封壁(135)包含主体回转壁(138)和多个凹槽(140);每一个凹槽(140)包含两个侧壁(142),且侧壁(142)是两边限定的从密封唇(134)开始横向向外延伸的宽度逐渐增大的面域。凹槽(140)具有增加环向周长,减小包裹区域,改善润滑可靠性,增加轴向抗拉刚度等功能,从而可较大的减小摩擦阻力和减小粘滑。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)