WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2018022730) REMPLISSAGE DE TRANCHÉES SANS SOUDURE À L'AIDE DE TECHNIQUES DE DÉPÔT/GRAVURE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication :    WO/2018/022730    N° de la demande internationale :    PCT/US2017/043907
Date de publication : 01.02.2018 Date de dépôt international : 26.07.2017
CIB :
H01L 21/768 (2006.01)
Déposants : APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, California 95054 (US)
Inventeurs : ANTHIS, Jeffrey W.; (US).
THOMPSON, David; (US)
Mandataire : BLANKMAN, Jeffrey I.; (US)
Données relatives à la priorité :
62/367,606 27.07.2016 US
15/658,846 25.07.2017 US
Titre (EN) SEAMLESS TRENCH FILL USING DEPOSITION/ETCH TECHNIQUES
(FR) REMPLISSAGE DE TRANCHÉES SANS SOUDURE À L'AIDE DE TECHNIQUES DE DÉPÔT/GRAVURE
Abrégé : front page image
(EN)Methods for filing a feature on a substrate surface comprising depositing a conformal nitride film on the substrate surface and at least one feature on the surface, oxidizing a portion of the nitride film to form an asymmetric oxide film on top of the nitride film and etching the oxide film from the nitride film to leave a v-shaped nitride film in the at least one feature.
(FR)La présente invention concerne des procédés permettant de déposer un élément sur une surface de substrat, consistant à déposer un film de nitrure conforme sur la surface de substrat et au moins un élément sur la surface, à oxyder une partie du film de nitrure en vue de former un film d'oxyde asymétrique sur la partie supérieure du film de nitrure et à graver le film d'oxyde à partir du film de nitrure en vue de laisser un film de nitrure en forme de V dans ledit élément.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)