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1. (WO2018022510) GRAVURE DE MATÉRIAU DE PRÉCISION MÉDIÉE PAR UN FILM MONOCOUCHE
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N° de publication :    WO/2018/022510    N° de la demande internationale :    PCT/US2017/043533
Date de publication : 01.02.2018 Date de dépôt international : 24.07.2017
CIB :
H01L 21/306 (2006.01), H01L 21/02 (2006.01)
Déposants : TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; Akasaka Biz Tower 3-1 Akasaka 5-chome Minato-ku, Tokyo 107-6325 (JP).
TOKYO ELECTRON U.S. HOLDINGS, INC. [US/US]; 2400 Grove Boulevard Austin, Texas 78741 (US) (JP only)
Inventeurs : RANJAN, Alok; (JP).
VENTZEK, Peter; (US)
Mandataire : STRANG, Eric; (US)
Données relatives à la priorité :
62/366,529 25.07.2016 US
Titre (EN) MONOLAYER FILM MEDIATED PRECISION MATERIAL ETCH
(FR) GRAVURE DE MATÉRIAU DE PRÉCISION MÉDIÉE PAR UN FILM MONOCOUCHE
Abrégé : front page image
(EN)A method of etching is described. The method includes treating at least a portion of a surface exposed on a substrate with an adsorption-promoting agent to alter a functionality of the exposed surface and cause subsequent adsorption of a carbon-containing precursor, and thereafter, adsorbing the organic precursor to the functionalized surface to form a carbon-containing film. Then, at least a portion of the surface of the carbon-containing film is exposed to an ion flux to remove the adsorbed carbon-containing film and at least a portion of the material of the underlying substrate.
(FR)La présente invention concerne un procédé de gravure. Le procédé consiste à traiter au moins une partie d'une surface exposée sur un substrat avec un agent favorisant l'adsorption pour modifier une fonctionnalité de la surface exposée et pour provoquer une adsorption ultérieure d'un précurseur contenant du carbone, et, par la suite, à adsorber le précurseur organique sur la surface fonctionnalisée afin de former un film contenant du carbone. Ensuite, au moins une partie de la surface du film contenant du carbone est exposée à un flux d'ions pour éliminer le film adsorbé contenant du carbone et au moins une partie du matériau du substrat sous-jacent.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)