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1. (WO2018022372) ÉBAUCHE DE MASQUE POUR ULTRAVIOLET EXTRÊME AVEC ABSORBEUR EN ALLIAGE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication :    WO/2018/022372    N° de la demande internationale :    PCT/US2017/042748
Date de publication : 01.02.2018 Date de dépôt international : 19.07.2017
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    23.02.2018    
CIB :
G03F 1/22 (2012.01), G03F 1/50 (2012.01), G03F 7/20 (2006.01), G03F 7/09 (2006.01)
Déposants : APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, California 95054 (US)
Inventeurs : JINDAL, Vibhu; (US)
Mandataire : SERVILLA, Scott S.; (US)
Données relatives à la priorité :
62/367,390 27.07.2016 US
15/652,501 18.07.2017 US
Titre (EN) EXTREME ULTRAVIOLET MASK BLANK WITH ALLOY ABSORBER AND METHOD OF MANUFACTURE
(FR) ÉBAUCHE DE MASQUE POUR ULTRAVIOLET EXTRÊME AVEC ABSORBEUR EN ALLIAGE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION
Abrégé : front page image
(EN)Extreme ultraviolet (EUV) mask blanks, methods for their manufacture and production systems therefor are disclosed. The EUV mask blanks comprise a an absorber layer on the capping layer, the absorber layer made from an alloy of at least two absorber materials.
(FR)L'invention concerne des ébauches de masque pour ultraviolet extrême (EUV), leurs procédés de fabrication et des systèmes de production s'y rapportant. Les ébauches de masque EUV comprennent une couche absorbante sur la couche de recouvrement, la couche absorbante étant constituée d'un alliage d'au moins deux matières absorbantes.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)