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1. (WO2018021562) DISPOSITIF DE NETTOYAGE À MICROBULLES ET PROCÉDÉ DE NETTOYAGE À MICROBULLES
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N° de publication :    WO/2018/021562    N° de la demande internationale :    PCT/JP2017/027551
Date de publication : 01.02.2018 Date de dépôt international : 28.07.2017
CIB :
H01L 21/304 (2006.01), G02F 1/13 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Déposants : PANASONIC INTELLECTUAL PROPERTY MANAGEMENT CO., LTD. [JP/JP]; 1-61, Shiromi 2-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5406207 (JP)
Inventeurs : HIDAKA Yoshiharu; (--).
YAMAMOTO Hiroshi; (--)
Mandataire : HIROKOH Masaki; (JP)
Données relatives à la priorité :
2016-150770 29.07.2016 JP
Titre (EN) MICROBUBBLE CLEANING DEVICE AND MICROBUBBLE CLEANING METHOD
(FR) DISPOSITIF DE NETTOYAGE À MICROBULLES ET PROCÉDÉ DE NETTOYAGE À MICROBULLES
(JA) 微細気泡洗浄装置及び微細気泡洗浄方法
Abrégé : front page image
(EN)There are cases in which even when fine bubbles are to be used for cleaning a semiconductor or an electronic device, the fine bubbles are stably present for a long time and do not therefore efficiently collapse on the surface of an object being cleaned. This microbubble cleaning device is characterized by having: a microbubble generating device which generates microbubbles in a cleaning liquid and thereby generates a bubble cleaning liquid; a spontaneous bubble-collapse device which generates a short-life bubble cleaning liquid by decreasing the life of the microbubbles in the cleaning liquid; and a cleaning bath in which the short-life bubble cleaning liquid and an object being cleaned are brought into contact. The microbubble cleaning device sets, in advance, the life of microbubbles to be short and therefore causes the microbubbles to be spontaneously collapse upon reaching the object being cleaned, thereby increasing cleaning capability.
(FR)Selon la présente invention, il existe des cas dans lesquels, même lorsque de fines bulles doivent être utilisées pour nettoyer un semi-conducteur ou un dispositif électronique, les bulles fines sont présentes de manière stable pendant une longue période et ne peuvent donc pas s'éclater efficacement sur la surface d'un objet étant nettoyé. Ce dispositif de nettoyage à microbulles est caractérisé en ce qu'il comporte : un dispositif de génération de microbulles qui génère des microbulles dans un liquide de nettoyage et génère ainsi un liquide de nettoyage à bulles ; un dispositif d'éclatement spontané de bulles qui génère un liquide de nettoyage à bulles de courte durée de vie en réduisant la durée de vie des microbulles dans le liquide de nettoyage ; et un bain de nettoyage dans lequel le liquide de nettoyage à bulles de courte durée de vie et un objet devant être nettoyé sont mis en contact. Le dispositif de nettoyage à microbulles règle, à l'avance, la durée de vie des microbulles pour qu'elle soit courte et, par conséquent, amène les microbulles à s'éclater spontanément après avoir atteint l'objet étant nettoyé, ce qui permet d'augmenter la capacité de nettoyage.
(JA)半導体や電子デバイスの洗浄にファインバブルを利用しようとしても、ファインバブルは長期間安定に存在するので、被洗浄物の表面で効率よく圧壊しない場合がある。 洗浄液中に微細気泡を発生させ、気泡洗浄液を生成する微細気泡発生装置と、前記気泡洗浄液中の前記微細気泡の寿命を短くし、短寿命気泡洗浄液を生成する気泡自発圧壊装置と、前記短寿命気泡洗浄液と被洗浄物を接触させる洗浄槽を有することを特徴とする微細気泡洗浄装置は、予め微細気泡の寿命を短く設定するので、被洗浄物に到達したときに自発圧壊させ、洗浄力を高める。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)