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1. (WO2018021428) TAMPON DE POLISSAGE ET PROCÉDÉ DE POLISSAGE L'UTILISANT
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N° de publication : WO/2018/021428 N° de la demande internationale : PCT/JP2017/027095
Date de publication : 01.02.2018 Date de dépôt international : 26.07.2017
CIB :
H01L 21/304 (2006.01) ,B24B 37/24 (2012.01) ,C08J 5/14 (2006.01)
Déposants : KURARAY CO., LTD.[JP/JP]; 1621, Sakazu, Kurashiki-shi, Okayama 7100801, JP
Inventeurs : TAKEGOSHI Minori; --
KATO Mitsuru; --
OKAMOTO Chihiro; --
KATO Shinya; --
Mandataire : EGAWA Masaru; JP
FURUKAWA Michiko; JP
Données relatives à la priorité :
2016-15038929.07.2016JP
Titre (EN) POLISHING PAD AND POLISHING METHOD USING SAME
(FR) TAMPON DE POLISSAGE ET PROCÉDÉ DE POLISSAGE L'UTILISANT
(JA) 研磨パッドおよびそれを用いた研磨方法
Abrégé : front page image
(EN) Provided is a polishing pad having a polishing surface which has a zeta potential of +0.1 mV or higher at pH 10.0. Preferably, also provided is a polishing pad that comprises a polyurethane including a tertiary amine. More preferably, the polyurethane including a tertiary amine is a reaction product of a polyurethane reaction raw material that at least contains a chain elongation agent including a tertiary amine. Also provided is a polishing method using either one of the polishing pads, wherein polishing is conducted while an alkaline polishing slurry is being supplied.
(FR) L'invention porte sur un tampon de polissage ayant une surface de polissage qui a un potentiel zêta de +0,1 mV ou plus à un pH de 10,0. De préférence, l'invention concerne également un tampon de polissage qui comprend un polyuréthane comprenant une amine tertiaire. Plus préférablement, le polyuréthane comprenant une amine tertiaire est un produit de réaction d'une matière première de réaction de polyuréthane qui contient au moins un agent d'allongement de chaîne comprenant une amine tertiaire. L'invention concerne également un procédé de polissage utilisant l'un ou l'autre des tampons de polissage, dans lequel le polissage est effectué tandis qu'une boue de polissage alcaline est fournie.
(JA) pH10.0におけるゼータ電位が+0.1mV以上である研磨面を有する研磨パッドが提供される。好ましくは、3級アミンを有するポリウレタンを含む研磨パッドが提供される。さらに好ましくは、3級アミンを有するポリウレタンは、3級アミンを有する鎖伸長剤を少なくとも含むポリウレタン反応原料の反応物である。また、それらの研磨パッドを用いたアルカリ性の研磨スラリーを供給しながら行う研磨方法が提供される。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)