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1. (WO2018020745) FILM POUR ANTENNE À ONDES MILLIMÉTRIQUES
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N° de publication : WO/2018/020745 N° de la demande internationale : PCT/JP2017/014371
Date de publication : 01.02.2018 Date de dépôt international : 06.04.2017
CIB :
C08J 9/26 (2006.01) ,C08G 73/10 (2006.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
J
MISE EN ŒUVRE; PROCÉDÉS GÉNÉRAUX POUR FORMER DES MÉLANGES; POST-TRAITEMENT NON COUVERT PAR LES SOUS-CLASSES C08B, C08C, C08F, C08G ou C08H149
9
Mise en œuvre de substances macromoléculaires pour produire des matériaux ou objets poreux ou alvéolaires; Leur post-traitement
26
par élimination d'une phase solide d'un objet ou d'une composition macromoléculaire, p.ex. par lessivage
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
G
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES OBTENUS PAR DES RÉACTIONS AUTRES QUE CELLES FAISANT INTERVENIR UNIQUEMENT DES LIAISONS NON SATURÉES CARBONE-CARBONE
73
Composés macromoléculaires obtenus par des réactions créant dans la chaîne principale de la macromolécule une liaison contenant de l'azote, avec ou sans oxygène ou carbone, non prévus dans les groupes C08G12/-C08G71/253
06
Polycondensats possédant des hétérocycles contenant de l'azote dans la chaîne principale de la macromolécule; Polyhydrazides; Polyamide-acides ou précurseurs similaires de polyimides
10
Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide-acides ou précurseurs similaires de polyimides
Déposants :
日東電工株式会社 NITTO DENKO CORPORATION [JP/JP]; 大阪府茨木市下穂積1丁目1番2号 1-2, Shimohozumi 1-chome, Ibaraki-shi, Osaka 5678680, JP
Inventeurs :
中村 将義 NAKAMURA Masayoshi; JP
程野 将行 HODONO Masayuki; JP
伊藤 孝彦 ITO Takahiko; JP
永岡 直樹 NAGAOKA Naoki; JP
日紫喜 智昭 HISHIKI Tomoaki; JP
Mandataire :
田中 伸一郎 TANAKA Shinichiro; JP
弟子丸 健 DESHIMARU Takeshi; JP
▲吉▼田 和彦 YOSHIDA Kazuhiko; JP
大塚 文昭 OHTSUKA Fumiaki; JP
西島 孝喜 NISHIJIMA Takaki; JP
須田 洋之 SUDA Hiroyuki; JP
上杉 浩 UESUGI Hiroshi; JP
近藤 直樹 KONDO Naoki; JP
Données relatives à la priorité :
2016-14554025.07.2016JP
Titre (EN) FILM FOR MILLIMETER-WAVE ANTENNA
(FR) FILM POUR ANTENNE À ONDES MILLIMÉTRIQUES
(JA) ミリ波アンテナ用フィルム
Abrégé :
(EN) The present invention provides a low-dielectric porous polymer film which has low permittivity at high frequencies of millimeter waves, and which is thus useful as a sheet for a millimeter-wave antenna. This low-dielectric porous polymer film is obtained by dispersedly forming fine holes in a film composed of a polymer material, wherein the film has a void content of 60% or more, and the holes have an average hole diameter of 10 μm or less.
(FR) La présente invention concerne un film polymère poreux à faible constante diélectrique, qui présente une faible constante diélectrique à des fréquences élevées d'ondes millimétriques, et qui est ainsi utile en tant que feuille destinée à une antenne à ondes millimétriques. On obtient ce film polymère poreux à faible constante diélectrique en formant de manière dispersée des trous fins dans un film constitué d'un matériau polymère, le film présentant une teneur en vides d'au moins 60 %, et les trous présentant un diamètre moyen de pores inférieur ou égal à 10 µm.
(JA) ミリ波の高周波数において低い誘電率を有することにより、ミリ波アンテナ用のシートとして有用な多孔質の低誘電性ポリマーフィルムを提供する。 ポリマー材料からなるフィルムに微細な空孔が分散形成された、多孔質の低誘電性ポリマーフィルムであって、フィルムの空孔率が60%以上であり、空孔の平均孔径が10μm以下であるフィルム。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)