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1. (WO2018020531) PROCÉDÉ DE POLISSAGE ET DISPOSITIF DE POLISSAGE POUR SUBSTRAT DE VERRE
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N° de publication :    WO/2018/020531    N° de la demande internationale :    PCT/JP2016/003476
Date de publication : 01.02.2018 Date de dépôt international : 27.07.2016
CIB :
C03C 15/00 (2006.01)
Déposants : DENSHO ENGINEERING CO.,LTD. [JP/JP]; 3202-1 Kouguki, Kazo-shi, Saitama 3470111 (JP).
JAPAN CREATE CO.,LTD. [JP/JP]; 1-203-4 Hayashi, Tokorozawa-shi, Saitama 3591167 (JP).
ICM CO.,LTD. [JP/JP]; 4-9-28 Midori-cho, Kasukabe-shi, Saitama 3440063 (JP).
TOKIWA SEISAKUSYO CO.,LTD. [JP/JP]; 13-3 Sakae-cho, Sano-shi, Tochigi 3270816 (JP)
Inventeurs : SUMOGE, Iwao; (JP).
ITO, Yoshio; (JP).
NAKAMURA, Mauro Massaru; (JP).
HIDAKA, Ronildo Pereira; (JP).
TANAKA, Mitsuaki; (JP)
Mandataire : HIROSE, Fumihiko; (JP)
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) POLISHING METHOD AND POLISHING DEVICE FOR GLASS SUBSTRATE
(FR) PROCÉDÉ DE POLISSAGE ET DISPOSITIF DE POLISSAGE POUR SUBSTRAT DE VERRE
(JA) ガラス基板の研磨方法および研磨装置
Abrégé : front page image
(EN)[Problem] To provide a polishing method and a polishing device for a glass substrate, with which chemical polishing of a glass substrate surface can be performed so as to form the glass substrate into a uniform thin film, tool marks can be suppressed, risk of damage can be reduced, and high polishing efficiency can be achieved. [Solution] This polishing method for a glass substrate is for uniformly polishing the surface of a glass substrate to be used for a liquid crystal display or organic EL display and includes: an arranging step of arranging and securing a vertically-hung glass substrate; a chemical polishing step of continuously spraying and applying a chemical polishing solution on both sides of the glass substrate from a plurality of spray nozzles; and a washing step of washing the melt-polished glass substrate. In the chemical polishing step, to prevent unevenness from occurring and remaining in spray application of the chemical polishing solution due to dripping, the spray nozzles on the upper edge side of the glass substrate are disposed such that the vertical spacing or horizontal spacing therebetween is narrower than on the lower edge side of the glass substrate.
(FR)Le problème décrit par la présente invention est de fournir un procédé de polissage et un dispositif de polissage pour un substrat de verre, avec lequel un polissage chimique d'une surface de substrat de verre peut être effectué de manière à former le substrat de verre en un film mince uniforme, des marques d'outil peuvent être supprimées, le risque d'endommagement peut être réduit, et une efficacité de polissage élevée peut être obtenue. [Solution] Le procédé de polissage d'un substrat en verre consiste à polir uniformément la surface d'un substrat de verre devant être utilisé pour un écran à cristaux liquides ou un affichage électroluminescent organique et comprend: une étape d'agencement consistant à disposer et à fixer un substrat de verre suspendu verticalement ; une étape de polissage chimique consistant à pulvériser en continu et à appliquer une solution de polissage chimique sur les deux côtés du substrat de verre à partir d'une pluralité de buses de pulvérisation ; et une étape de lavage consistant à laver le substrat de verre poli par fusion. Dans l'étape de polissage chimique, afin d'empêcher l'apparition d'une irrégularité et restant dans l'application par pulvérisation de la solution de polissage chimique due à l'égouttement, les buses de pulvérisation sur le côté de bord supérieur du substrat de verre sont disposées de telle sorte que l'espacement vertical ou l'espacement horizontal entre elles est plus étroit que sur le côté de bord inférieur du substrat de verre.
(JA)【課題】 ガラス基板が均一な薄膜となるように表面を化学研磨することを可能とするとともに、治具痕の発生を抑制すると同時に破損のリスクを抑制した、研磨効率の高いガラス基板の研磨方法および研磨装置を提供する事を目的とする。 【解決手段】 液晶ディスプレイまたは有機ELディスプレイに用いるガラス基板の表面を均質に研磨するためのガラス基板の研磨方法が、ガラス基板を垂直に吊下して設置固定する設置工程と、化学研磨液を複数の噴射ノズルからガラス基板の両側面に継続的に噴射塗布する化学研磨工程と、溶融研磨されたガラス基板を洗浄する洗浄工程と、からなり、化学研磨工程は、液垂による化学研磨液の噴射塗布のムラの発生と残存を防止するため、ガラス基板上端側の噴射ノズルの縦間隔または横間隔をガラス基板下端より狭くなるように配置する構成である。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)