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1. (WO2018020223) SUBSTRAT
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N° de publication : WO/2018/020223 N° de la demande internationale : PCT/GB2017/052155
Date de publication : 01.02.2018 Date de dépôt international : 24.07.2017
CIB :
B42D 25/324 (2014.01) ,B42D 25/378 (2014.01) ,B42D 25/387 (2014.01) ,B42D 25/41 (2014.01) ,B42D 25/23 (2014.01) ,B42D 25/24 (2014.01) ,B42D 25/29 (2014.01) ,B44F 1/10 (2006.01)
[IPC code unknown for B42D 25/324][IPC code unknown for B42D 25/378][IPC code unknown for B42D 25/387][IPC code unknown for B42D 25/41][IPC code unknown for B42D 25/23][IPC code unknown for B42D 25/24][IPC code unknown for B42D 25/29]
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
44
ARTS DÉCORATIFS
F
DESSINS PARTICULIERS
1
Dessins ou peintures caractérisés par des effets de lumière particuliers ou inhabituels
08
caractérisés par des effets de couleur
10
Tableaux changeants, amusants ou à secret
Déposants :
NAUTILUS (GB) LIMITED [GB/GB]; c/o Pendragon Presentation Packaging The Haysfield Malvern Worcestershire WR14 1GF, GB
Inventeurs :
CALIXTO GORTAREZ, Jose Guadalupe; GB
GODDARD, Christopher James; GB
Mandataire :
APPLEYARD LEES IP LLP; 15 Clare Road Halifax Yorkshire HX1 2HY, GB
Données relatives à la priorité :
1612930.626.07.2016GB
Titre (EN) SUBSTRATE
(FR) SUBSTRAT
Abrégé :
(EN) A substrate. The substrate comprises a first deposit of a first material on the substrate, the first deposit defining raised lines on the substrate, the raised lines having a first thickness defining a raised surface on the substrate. The substrate further comprises a second deposit of a second material on the substrate, the second deposit defining second lines on the substrate, wherein a thickness of the second lines is less than a thickness of the raised lines. There is a first positional relationship between a first portion of the raised and second lines, and a second positional relationship between a second portion of the raised and second lines, such that, when viewed from a first angle, the first portion of the second lines is visible, and second portion of the second lines is not visible so as to form a first visual property, and when viewed from a second angle, the first portion of the second lines is not visible, and the second portion of the second lines is visible, so as to form a second visual property.
(FR) L'invention concerne un substrat. Le substrat comprend un premier dépôt d'un premier matériau sur le substrat, le premier dépôt délimitant des lignes en relief sur le substrat, les lignes en relief ayant une première épaisseur délimitant une surface en relief sur le substrat. Le substrat comprend en outre un second dépôt d'un second matériau sur le substrat, le second dépôt délimitant des secondes lignes sur le substrat, l'épaisseur des secondes lignes étant inférieure à l'épaisseur des lignes en relief. Il existe une première relation de position entre une première partie des lignes en relief et des secondes lignes, et une seconde relation de position entre une seconde partie des lignes en relief et des secondes lignes, de telle sorte que, vue d'un premier angle, la première partie des secondes lignes est visible, et une seconde partie des secondes lignes n'est pas visible de manière à former une première propriété visuelle, et que, vue d'un second angle, la première partie des secondes lignes n'est pas visible, et la seconde partie des secondes lignes est visible, de manière à former une seconde propriété visuelle.
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)