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1. (WO2018018161) PROCÉDÉ DE DÉPÔT ÉLECTROCHIMIQUE
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N° de publication :    WO/2018/018161    N° de la demande internationale :    PCT/CA2017/050914
Date de publication : 01.02.2018 Date de dépôt international : 28.07.2017
CIB :
C25D 3/02 (2006.01), C25D 1/00 (2006.01), C25D 5/00 (2006.01)
Déposants : SIMON FRASER UNIVERSITY [CA/CA]; Multi-Tenant Facility 8888 University Drive Burnaby, British Columbia V5A 1S6 (CA)
Inventeurs : LEACH, Gary William; (CA).
VOSOOGH-GRAYLI, Sasan; (CA).
MACNAB, Finlay Charles Henry; (CA)
Mandataire : RATTRAY, Todd A.; (CA).
GREEN, Bruce M.; (CA).
ASH, Craig A.; (CA).
MCGRUDER, David J.; (CA).
MANNING, Gavin N.; (CA).
KONDOR, George F.; (CA).
SUE, Hilton W.C.; (CA).
MARLES, Jennifer A.; (CA).
BAILEY, Thomas W.; (CA).
FONG, Amy M.; (CA).
TAKAGAWA, David H.; (CA).
MELNYCHUK, Stephanie A.; (CA)
Données relatives à la priorité :
62/368,292 29.07.2016 US
Titre (EN) METHODS OF ELECTROCHEMICAL DEPOSITION
(FR) PROCÉDÉ DE DÉPÔT ÉLECTROCHIMIQUE
Abrégé : front page image
(EN)A method of electrochemical deposition of a metallic material onto a substrate is provided. The method includes providing an alkaline solution of hydroxide ions, immersing a metallic material precursor and the substrate into the alkaline solution to form an electrochemical bath, and electrochemically depositing a textured layer of the metallic material onto the substrate. A method of electrochemical deposition of a textured nanoparticle is provided. The method includes providing an alkaline solution of hydroxide ions, immersing the metallic material into the alkaline solution to form an electrochemical bath, and precipitating the textured nanoparticles from the electrochemical bath. A method of electrochemical deposition of a metallic material onto a nanoparticle is provided. The method includes providing an alkaline solution of hydroxide ions, immersing the metallic material and the nanoparticle into the alkaline solution to form an electrochemical bath, and depositing a textured layer of the metallic material onto the nanoparticle.
(FR)L'invention concerne un procédé de dépôt électrochimique d'un matériau métallique sur un substrat. Le procédé comprend l'apport d'une solution alcaline d'ions hydroxyde, l'immersion d'un précurseur de matériau métallique et du substrat dans la solution alcaline pour former un bain électrochimique, et le dépôt électrochimique d'une couche texturée du matériau métallique sur le substrat. L'invention concerne également un procédé de dépôt électrochimique d'une nanoparticule texturée. Le procédé comprend l'apport d'une solution alcaline d'ions hydroxyde, l'immersion du matériau métallique dans la solution alcaline pour former un bain électrochimique, et la précipitation des nanoparticules texturées dans le bain électrochimique. L'invention concerne un procédé de dépôt électrochimique d'un matériau métallique sur une nanoparticule. Le procédé comprend l'apport d'une solution alcaline d'ions hydroxyde, l'immersion du matériau métallique et de la nanoparticule dans la solution alcaline pour former un bain électrochimique, et le dépôt d'une couche texturée du matériau métallique sur la nanoparticule.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)