Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales

1. (WO2017223541) PROCÉDÉ AU NITRURE DE SILICIUM POUR LA RÉDUCTION DU DÉCALAGE DE SEUIL

Pub. No.:    WO/2017/223541    International Application No.:    PCT/US2017/039150
Publication Date: Fri Dec 29 00:59:59 CET 2017 International Filing Date: Sat Jun 24 01:59:59 CEST 2017
IPC: H01L 29/78
H01L 21/336
H01L 21/318
Applicants: TEXAS INSTRUMENTS INCORPORATED
TEXAS INSTRUMENTS JAPAN LIMITED
Inventors: DELLAS, Nicholas, Stephen
TIPIRNENI, Naveen
LEE, Dong, Seup
Title: PROCÉDÉ AU NITRURE DE SILICIUM POUR LA RÉDUCTION DU DÉCALAGE DE SEUIL
Abstract:
L'invention concerne un dispositif à semi-conducteur (100) comprenant un substrat (102) d'un matériau semi-conducteur (104). Le dispositif semi-conducteur (100) comprend un transistor à effet de champ (106) dans et sur le matériau semi-conducteur (104). Le transistor à effet de champ (106) comporte une couche diélectrique de grille (110) sur le matériau semi-conducteur (104) du dispositif semi-conducteur (100), et une grille (112) sur la couche diélectrique de grille (110). La couche diélectrique de grille (110) comprend une couche de nitrure de silicium riche en azote (120) immédiatement au-dessus de la région du canal (114), et sous la grille (112).