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1. (WO2017223434) EMPILEMENTS COMPRENANT DES COUCHES SOL-GEL ET LEURS PROCÉDÉS DE FORMATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication : WO/2017/223434 N° de la demande internationale : PCT/US2017/038979
Date de publication : 28.12.2017 Date de dépôt international : 23.06.2017
CIB :
C03C 17/25 (2006.01) ,C23C 18/00 (2006.01) ,G02B 1/11 (2015.01)
Déposants : ADVENIRA ENTERPRISES, INC.[US/US]; 788 Palomar Avenue Sunnyvale, California 94085, US
Inventeurs : NAGAMEDIANOVA, Zoulfia; US
DAWLEY, Jeff; US
RYABOVA, Elmira; US
MAH, Christopher; US
Mandataire : GUSEV, Vladimir Y.; US
Données relatives à la priorité :
62/354,66224.06.2016US
Titre (EN) STACKS INCLUDING SOL-GEL LAYERS AND METHODS OF FORMING THEREOF
(FR) EMPILEMENTS COMPRENANT DES COUCHES SOL-GEL ET LEURS PROCÉDÉS DE FORMATION
Abrégé : front page image
(EN) Provided are methods of forming stacks comprising a substrate and one or more sol- gel layers disposed on the substrate. Also provided are stacks formed by these methods. The sol-gel layers in these stacks, especially outer layers, may have a porosity of less than 1% or even less than 0.5%. In some embodiments, these layers may have a surface roughness (Ra) of less than 1 nanometers. The sol-gel layers may be formed using radiative curing and/or thermal curing at temperatures of between 400°C and 700°C or higher. These temperatures allow application of sol- gel layers on new types of substrates. A sol-gel solution, used to form these layers, may have colloidal nanoparticles with a size of less than 20 Angstroms on average. This small size and narrow size distribution is believed to control the porosity of the resulting sol-gel layers.
(FR) L'invention concerne des procédés de formation de piles comprenant un substrat et une ou plusieurs couches sol-gel disposées sur le substrat. L'invention concerne également des empilements formés selon ces procédés. Les couches sol-gel dans ces empilements, en particulier les couches externes, peuvent avoir une porosité inférieure à 1 % ou même inférieure à 0,5 %. Dans certains modes de réalisation, ces couches peuvent avoir une rugosité de surface (Ra) inférieure à 1 nanomètre. Les couches sol-gel peuvent être formées par durcissement par rayonnement et/ou durcissement thermique à des températures comprises entre 400 °C et 700 °C ou plus. Ces températures permettent l'application de couches sol-gel sur de nouveaux types de substrats. Une solution sol-gel, utilisée pour former ces couches, peut avoir des nanoparticules colloïdales d'une taille inférieure à 20 angströms en moyenne. On pense que cette petite taille et cette distribution de taille étroite commandent la porosité des couches sol-gel obtenues.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)