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1. (WO2017222785) GÉNÉRATION DE FAISCEAUX PARALLÈLES SÉPARÉS SERVANT À UNE INTERFÉROMÉTRIE ATOMIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication :    WO/2017/222785    N° de la demande internationale :    PCT/US2017/035727
Date de publication : 28.12.2017 Date de dépôt international : 02.06.2017
CIB :
G01B 9/02 (2006.01)
Déposants : THE CHARLES STARK DRAPER LABORATORY, INC. [US/US]; 555 Technology Square Cambridge, MA 02139 (US)
Inventeurs : SINCLAIR, Matthew; (US).
KELSEY, Adam; (US).
STONER, Richard, E.; (US)
Mandataire : SAUNDER, Steven, G.; (US).
SUNSTEIN, Bruce, D.; (US).
ASHER, Robert, M.; (US).
PETUCHOWSKI, Samuel, J.; (US).
MURPHY, Timothy, M.; (US)
Données relatives à la priorité :
62/353,415 22.06.2016 US
15/402,399 10.01.2017 US
Titre (EN) SEPARATED PARALLEL BEAM GENERATION FOR ATOM INTERFEROMETRY
(FR) GÉNÉRATION DE FAISCEAUX PARALLÈLES SÉPARÉS SERVANT À UNE INTERFÉROMÉTRIE ATOMIQUE
Abrégé : front page image
(EN)An atomic interferometer and methods for measuring phase shifts in interference fringes using the same. The atomic interferometer has a laser beam traversing an ensemble of atoms along a first path and an optical components train with at least one alignment-insensitive beam routing element configured to reflect the laser beam along a second path that is anti-parallel with respect to the first laser beam path. Any excursion from parallelism of the second beam path with respect to the first is rigorously independent of variation of the first laser beam path in yaw parallel to an underlying plane.
(FR)L'invention concerne un interféromètre atomique et des procédés de mesure de déphasages dans des franges d'interférence utilisant ledit interféromètre atomique. L'interféromètre atomique comprend un faisceau laser traversant un ensemble d'atomes le long d'un premier trajet et un train d'éléments optiques avec au moins un élément d'acheminement de faisceau insensible à l'alignement configuré pour réfléchir le faisceau laser le long d'un second trajet qui est anti-parallèle par rapport au premier trajet de faisceau laser. Toute déviation du parallélisme du second trajet de faisceau par rapport au premier est rigoureusement indépendante de la variation du premier trajet de faisceau laser en lacet parallèlement à un plan sous-jacent.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)