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1. (WO2017222349) MODULE DE GAZ D'ÉQUIPEMENT DE DÉPÔT DE COUCHES ATOMIQUES, ÉQUIPEMENT DE DÉPÔT DE COUCHES ATOMIQUES, ET PROCÉDÉ DE DÉPÔT DE COUCHES ATOMIQUES LE METTANT EN ŒUVRE
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N° de publication :    WO/2017/222349    N° de la demande internationale :    PCT/KR2017/006679
Date de publication : 28.12.2017 Date de dépôt international : 26.06.2017
CIB :
C23C 16/455 (2006.01), C23C 16/44 (2006.01), C23C 16/54 (2006.01), C23C 16/458 (2006.01), C23C 16/52 (2006.01)
Déposants : NEXUSBE CO., LTD. [KR/KR]; (Hyoja-dong 2ga, Jeonju University Culture Technology) 121ho, 303, Cheonjam-ro, Wansan-gu Jeonju-si Jeollabuk-do 55069 (KR)
Inventeurs : CHOI, Hag Young; (KR).
CHOI, Yeong Tae; (KR).
KIM, Dong Won; (KR).
KIM, Sang Hun; (KR).
KIM, Keun Sik; (KR)
Mandataire : SHIM, Kyoung-Shik; (KR).
HONG, Sung-Wook; (KR)
Données relatives à la priorité :
10-2016-0079170 24.06.2016 KR
Titre (EN) ATOMIC LAYER DEPOSITION EQUIPMENT GAS MODULE, ATOMIC LAYER DEPOSITION EQUIPMENT, AND ATOMIC LAYER DEPOSITION METHOD USING SAME
(FR) MODULE DE GAZ D'ÉQUIPEMENT DE DÉPÔT DE COUCHES ATOMIQUES, ÉQUIPEMENT DE DÉPÔT DE COUCHES ATOMIQUES, ET PROCÉDÉ DE DÉPÔT DE COUCHES ATOMIQUES LE METTANT EN ŒUVRE
(KO) 원자층 증착 장비 가스 모듈, 원자층 증착 장비 및 그를 이용한 원자층 증착 방법
Abrégé : front page image
(EN)An atomic layer deposition equipment gas module is provided. An atomic layer deposition equipment gas module according to an embodiment of the present invention may comprise: a first gas module having a source gas supply portion for providing source gas toward a substrate and a first purge gas supply portion for providing purge gas toward the substrate; and a second gas module having a reaction gas supply portion positioned in the direction of transfer of the substrate with regard to the first gas module so as to provide reaction gas toward the substrate and a second purge gas supply portion for providing purge gas toward the substrate.
(FR)Cette invention concerne un module de gaz d'équipement de dépôt de couches atomiques. Un module de gaz d'équipement de dépôt de couches atomiques selon un mode de réalisation de l'invention peut comprendre : un premier module de gaz ayant une partie d'alimentation en gaz de source pour fournir un gaz de source vers un substrat et une première partie d'alimentation en gaz de purge pour fournir un gaz de purge vers le substrat ; et un second module de gaz ayant une partie d'alimentation en gaz de réaction positionnée dans le sens de transfert du substrat par rapport au premier module de gaz de façon à fournir un gaz de réaction vers le substrat et une seconde partie d'alimentation en gaz de purge pour fournir un gaz de purge vers le substrat.
(KO)원자층 증착 장비 가스 모듈이 제공된다. 본 발명의 일 실시 예에 따른 원자층 증착 장비 가스 모듈은 기판을 향하여 소스 가스를 제공하는 소스 가스 공급부 및 상기 기판을 향하여 퍼지 가스를 제공하는 제1 퍼지 가스 공급부가 마련되는 제1 가스 모듈 및 상기 제1 가스 모듈에 대하여 상기 기판의 이송 방향에 위치하며, 상기 기판을 향하여 반응 가스를 제공하는 반응 가스 공급부 및 상기 기판을 향하여 퍼지 가스를 제공하는 제2 퍼지 가스 공급부가 마련되는 제2 가스 모듈을 포함하여 이루어질 수 있다.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : coréen (KO)
Langue de dépôt : coréen (KO)