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1. (WO2017221889) NOUVEL AGENT PROTECTEUR DU DIPHÉNYLMÉTHANE
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N° de publication :    WO/2017/221889    N° de la demande internationale :    PCT/JP2017/022525
Date de publication : 28.12.2017 Date de dépôt international : 19.06.2017
CIB :
C07F 7/18 (2006.01), C07B 51/00 (2006.01)
Déposants : SEKISUI MEDICAL CO., LTD. [JP/JP]; 1-3, Nihonbashi 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1030027 (JP)
Inventeurs : YANO, Shinya; (JP).
KUBOTA, Hideki; (JP)
Mandataire : THE PATENT CORPORATE BODY ARUGA PATENT OFFICE; Sawanotsuru Ningyocho Bldg., 1-3-8, Nihonbashi Ningyocho, Chuo-ku, Tokyo 1030013 (JP)
Données relatives à la priorité :
2016-121986 20.06.2016 JP
2016-219631 10.11.2016 JP
Titre (EN) NOVEL DIPHENYLMETHANE PROTECTIVE AGENT
(FR) NOUVEL AGENT PROTECTEUR DU DIPHÉNYLMÉTHANE
(JA) 新規ジフェニルメタン保護剤
Abrégé : front page image
(EN)The present invention addresses the problem of developing a protecting group which allows for easy post-reaction isolation and purification of a compound having a protected functional group without the compound being solidified or insolubilized. A diphenylmethane compound represented by general formula (1) (In the formula, Y represents -OR19 (where R19 represents a hydrogen atom or an active ester-type protecting group), -NHR20 (where R20 represents a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group having 1-6 carbon atoms, or an aralkyl group, etc., at least one of R1-R10 represents a group represented by formula (2), and the others represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1-4 carbon atoms, or an alkoxy group having 1-4 carbon atoms; R11 represents a linear or branched alkylene group having 1-16 carbon atoms; X represents O or CONR21 (where R21 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1-4 carbon atoms); and A represents a group represented by formula (3), etc.).
(FR)La présente invention aborde le problème du développement d'un groupe protecteur qui permet pour une post-réaction facile d'isolation et de purification d'un composé ayant un groupe fonctionnel protégé sans que le composé ne soit solidifié ou insolubilisé. Un composé de diphénylméthane représenté par la formule générale (1) (dans la formule, Y représente -OR19 (où R19 représente un atome d'hydrogène ou un groupe protecteur de type ester actif),-NHR20 (où R20 représente un atome d'hydrogène, un groupe alkyle linéaire ou ramifié ayant de 1 à 6 atomes de carbone, ou un groupe aralkyle, etc., au moins l'un de R1-R10 représente un groupe représenté par la formule (2), et les autres représentent un atome d'hydrogène, un atome d'halogène, un groupe alkyle ayant de 1 à 4 atomes de carbone, ou un groupe alcoxy ayant de 1 à 4 atomes de carbone; R11 représente un groupe alkylène linéaire ou ramifié ayant de 1 à 16 atomes de carbone; X représente O ou CONR 21 (où R21 représente un atome d'hydrogène ou un groupe alkyle ayant de 1 à 4 atomes de carbone); et A représente un groupe représenté par la formule (3), etc.)
(JA)官能基を保護した化合物を固体化又は不溶化させず、反応後の分離、精製を容易ならしめる保護基を開発することにある。 一般式(1)(式中、Yは-OR19(ここでR19は水素原子又は活性エステル型保護基を示す)、-NHR20(ここで、R20は水素原子、炭素数1~6の直鎖若しくは分岐鎖のアルキル基、又はアラルキル基を示す等を示し、R1~R10のうちの少なく とも1個は式(2)で表される基を示し、残余は水素原子、ハロゲン原子、炭素数1~4のアルキル基又は炭素数1~4のアルコキシ基を示し; R11は炭素数1~16の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基を示し; XはO又はCONR21(ここでR21は水素原子又は炭素数1~4のアルキル基を示す)を示し; Aは式(3)等 で表される基を示す) で表されるジフェニルメタン化合物。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)