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1. (WO2017221683) PROCÉDÉ DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT, SUPPORT D'ENREGISTREMENT LISIBLE PAR ORDINATEUR ET SYSTÈME DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication : WO/2017/221683 N° de la demande internationale : PCT/JP2017/020853
Date de publication : 28.12.2017 Date de dépôt international : 05.06.2017
CIB :
B05D 1/40 (2006.01) ,B05C 11/08 (2006.01) ,B05D 1/36 (2006.01) ,G03F 7/16 (2006.01) ,G03F 7/40 (2006.01) ,H01L 21/027 (2006.01)
Déposants : TOKYO ELECTRON LIMITED[JP/JP]; 3-1, Akasaka 5-chome, Minato-ku, Tokyo 1076325, JP
Inventeurs : YAMAUCHI, Takashi; JP
ENOMOTO, Masashi; JP
Mandataire : KANEMOTO, Tetsuo; JP
KAMEYA, Yoshiaki; JP
HAGIWARA, Yasushi; JP
Données relatives à la priorité :
2016-12596724.06.2016JP
Titre (EN) SUBSTRATE TREATMENT METHOD, READABLE COMPUTER RECORDING MEDIUM, AND SUBSTRATE TREATMENT SYSTEM
(FR) PROCÉDÉ DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT, SUPPORT D'ENREGISTREMENT LISIBLE PAR ORDINATEUR ET SYSTÈME DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT
(JA) 基板処理方法、読み取り可能なコンピュータ記憶媒体及び基板処理システム
Abrégé : front page image
(EN) This substrate treatment method for treating a substrate by use of a block copolymer containing a hydrophilic polymer and a hydrophobic polymer, comprises: a pre-wet liquid film forming step for forming a liquid film of a pre-wet liquid containing a solvent of a coating liquid of a block copolymer, by supplying the pre-wet liquid to a substrate; and a block copolymer thin film forming step for forming a thin film of the block copolymer by supplying, to the substrate, the coating liquid of the block copolymer and by rotating the substrate, wherein at the pre-wet liquid film forming step, the liquid film of the pre-wet liquid is formed into an annular shape concentric with the substrate.
(FR) La présente invention concerne un procédé de traitement de substrat qui consiste à traiter un substrat en utilisant un copolymère séquencé contenant un polymère hydrophile et un polymère hydrophobe, comprenant : une étape de formation de film liquide pré-humide pour former un film liquide d'un liquide pré-humide contenant un solvant d'un liquide de revêtement d'un copolymère séquencé, en fournissant le liquide pré-humide à un substrat ; et une étape de formation de film mince de copolymère séquencé pour former un film mince du copolymère séquencé en fournissant, au substrat, le liquide de revêtement du copolymère séquencé et en faisant tourner le substrat, le film liquide du liquide pré-humide étant formé en une forme annulaire concentrique au substrat au cours de l'étape de formation de film liquide pré-humide.
(JA) 基板処理方法は、親水性ポリマーと疎水性ポリマーとを含むブロック共重合体を用いて基板を処理する基板処理方法であり、ブロック共重合体の塗布液の溶媒を含むプリウェット液を基板に供給して、該プリウェット液の液膜を形成するプリウェット液膜形成工程と、その後ブロック共重合体の塗布液を基板に供給し、基板を回転させ、ブロック共重合体の薄膜を形成するブロック共重合体薄膜形成工程と、を有し、プリウェット液膜形成工程では、プリウェット液の液膜が基板と同心の円環状に形成される。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)