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1. (WO2017221491) DISPOSITIF, SYSTÈME ET PROCÉDÉ DE COMMANDE
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N° de publication :    WO/2017/221491    N° de la demande internationale :    PCT/JP2017/011939
Date de publication : 28.12.2017 Date de dépôt international : 24.03.2017
CIB :
A61B 1/045 (2006.01), A61B 1/06 (2006.01), G02B 23/24 (2006.01)
Déposants : SONY CORPORATION [JP/JP]; 1-7-1, Konan, Minato-ku, Tokyo 1080075 (JP)
Inventeurs : SUGIE, Yuki; (JP).
KIKUCHI, Daisuke; (JP).
ICHIKI, Hiroshi; (JP).
HAYASHI, Tsuneo; (JP).
AKITA, Masayoshi; (JP).
UEDA, Mitsunori; (JP).
FURUKAWA, Akio; (JP)
Mandataire : KAMEYA, Yoshiaki; (JP).
KANEMOTO, Tetsuo; (JP).
HAGIWARA, Yasushi; (JP).
MATSUMOTO, Kazunori; (JP)
Données relatives à la priorité :
2016-124423 23.06.2016 JP
Titre (EN) CONTROL DEVICE, CONTROL SYSTEM, AND CONTROL METHOD
(FR) DISPOSITIF, SYSTÈME ET PROCÉDÉ DE COMMANDE
(JA) 制御装置、制御システム、および制御方法
Abrégé : front page image
(EN)[Problem] To provide a control device, a control system, and a control method that can suitably determine an irradiation period in setting in which light emission occurs simultaneously with imaging. [Solution] A control device that comprises a light source control unit to determine that a period corresponding to the interval between when a first line exposure starts in an imaging element and when a second line exposure ends in the imaging element is an irradiation period in which light is emitted from a light source unit, wherein the second line is the line for which exposure in a frame starts earlier than the first line.
(FR)Le problème abordé par la présente invention est de pourvoir à un dispositif, à un système, et à un procédé de commande qui peuvent déterminer de manière appropriée une période d'exposition pendant laquelle l'émission de lumière se produit simultanément à l'imagerie. La solution selon l'invention porte sur un dispositif de commande qui comprend une unité de commande de source lumineuse qui détermine qu'une période correspondant à l'intervalle entre le début de l'exposition d'une première ligne d'un élément d'imagerie et la fin de l'exposition d'une seconde ligne de l'élément d'imagerie est une période d'exposition pendant laquelle la lumière est émise par une unité de source lumineuse, la seconde ligne étant la ligne pour laquelle l'exposition dans un cadre débute plus tôt que pour la première ligne.
(JA)【課題】撮像と同時に光を照射させる場面において、照射期間を適切に決定することが可能な、制御装置、制御システム、および制御方法を提案する。 【解決手段】撮像素子における第1のラインの露光開始タイミングと、前記撮像素子における第2のラインの露光終了タイミングとの間に応じた期間を、光源部に光を照射させる照射期間として決定する光源制御部、を備え、前記第2のラインは、一枚のフレームにおける露光の開始が前記第1のラインよりも早いラインである、制御装置。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)