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1. (WO2017221362) DISPOSITIF À FAISCEAU DE PARTICULES CHARGÉES
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N° de publication :    WO/2017/221362    N° de la demande internationale :    PCT/JP2016/068603
Date de publication : 28.12.2017 Date de dépôt international : 23.06.2016
CIB :
H01J 37/28 (2006.01), H01J 37/075 (2006.01), H01J 37/252 (2006.01)
Déposants : HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION [JP/JP]; 24-14, Nishi Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058717 (JP)
Inventeurs : NAKAMURA Mitsuhiro; (JP).
ITABASHI Hironori; (JP).
SATOU Hirofumi; (JP).
SAITO Tsutomu; (JP).
SASAJIMA Masahiro; (JP).
TSUNO Natsuki; (JP).
NAKAMURA Yohei; (JP)
Mandataire : POLAIRE I.P.C.; 13-11, Nihonbashikayabacho 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1030025 (JP)
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE
(FR) DISPOSITIF À FAISCEAU DE PARTICULES CHARGÉES
(JA) 荷電粒子線装置
Abrégé : front page image
(EN)The objective of the invention is to provide a charged particle beam device allowing stable secondary particles (23) and electromagnetic waves (24) to be detected even with a non-conductive sample under a high-vacuum environment, and allowing satisfactory observation and analysis thereof. The charged particle beam device comprises: a charged particle gun (12); scanning deflectors (17, 18) for scanning a sample (21) with a charged particle beam (20); detection units (40, 41) for detecting scanning control voltages input from the exterior into the scanning deflectors; an arithmetic unit (42) for calculating, on the basis of the detected scanning control voltages, irradiation pixel coordinates for the charged particle beam (20); and an irradiation control unit (45) for controlling the irradiation of the sample (21) with the charged particle beam (20) according to the irradiation pixel coordinates.
(FR)L'objectif de l'invention est de fournir un dispositif à faisceau de particules chargées permettant des particules secondaires stables (23) et des ondes électromagnétiques (24) à être détectée même avec un échantillon non conducteur dans un environnement à vide poussé, et permettant une observation et une analyse satisfaisantes de celui-ci. Le dispositif à faisceau de particules chargées comprend : un canon à particules chargées (12); des déflecteurs de balayage (17, 18) pour balayer un échantillon (21) avec un faisceau de particules chargées (20); des unités de détection (4 41) pour détecter des tensions de commande de balayage introduites depuis l'extérieur dans les déflecteurs de balayage; une unité arithmétique (42) pour calculer, sur la base des tensions de commande de balayage détectées, des coordonnées de pixels d'irradiation pour le faisceau de particules chargées (20); et une unité de commande d'irradiation (45) pour commander l'irradiation de l'échantillon (21) avec le faisceau de particules chargées (20) selon les coordonnées des pixels d'irradiation.
(JA)高真空環境下の非導電性試料に対しても安定した二次粒子(23)や電磁波(24)を検出し良好な観察や分析が可能な荷電粒子線装置を提供するために、荷電粒子銃(12)と、荷電粒子線(20)を試料(21)上で走査する走査偏向器(17、18)と、走査偏向器へ外部から入力される走査制御電圧を検出する検出部(40、41)と、検出された走査制御電圧に基づいて荷電粒子線(20)の照射画素座標を算出する演算部(42)と、照射画素座標に応じて荷電粒子線(20)の試料(21)への照射を制御する照射制御部(45)と、を有する荷電粒子線装置とする。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)