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1. (WO2017220930) SYSTEME ET METHODE DE REALISATION D'UN MASQUE OPTIQUE POUR MICRO-TEXTURATION DE SURFACE, INSTALLATION ET METHODE DE MICRO-TEXTURATION DE SURFACE
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N° de publication :    WO/2017/220930    N° de la demande internationale :    PCT/FR2017/051649
Date de publication : 28.12.2017 Date de dépôt international : 21.06.2017
CIB :
G03F 1/00 (2012.01), G03F 1/68 (2012.01), G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : H.E.F. [FR/FR]; Avenue Benoît Fourneyron 42160 ANDREZIEUX-BOUTHEON (FR).
UNIVERSITE JEAN MONNET SAINT ETIENNE [FR/FR]; 10 rue Tréfilerie 42023 SAINT-ETIENNE CEDEX 2 (FR).
CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE (CNRS) [FR/FR]; 3 Rue Michel Ange 75794 PARIS CEDEX 16 (FR)
Inventeurs : BICHOTTE, Maxime; (FR).
JOURLIN, Yves; (FR).
DUBOST, Laurent; (FR)
Mandataire : THIVILLIER, Patrick; (FR).
THOLLOT, Fabien; (FR).
SEMAOUNE, Idriss; (FR).
BUCHET, Anne; (FR).
DENJEAN, Eric; (FR).
PALIX, Stéphane; (FR).
VUILLERMOZ, Bruno; (FR)
Données relatives à la priorité :
1655753 21.06.2016 FR
Titre (EN) SYSTEM AND METHOD FOR PRODUCING AN OPTICAL MASK FOR SURFACE MICROTEXTURING, AND SURFACE MICROTEXTURING PLANT AND METHOD
(FR) SYSTEME ET METHODE DE REALISATION D'UN MASQUE OPTIQUE POUR MICRO-TEXTURATION DE SURFACE, INSTALLATION ET METHODE DE MICRO-TEXTURATION DE SURFACE
Abrégé : front page image
(EN)The invention relates to a system (2) for producing an optical mask (35) for surface microtexturing, said system (2) comprising: a substrate (10) having a surface (11) that is to be textured; a layer of material (20) which covers the surface (11) of the substrate (10) and has an outer surface (21) that is exposed to the outside environment; and a device for creating and depositing droplets (30) on the outer surface (21) of the layer of material (20) in a specific pattern (31) under the effect of condensation such that the optical mask (35) is formed on the outer surface (21) of the layer of material (20). The invention also relates to a treatment plant comprising a system (2) of said type. The invention further relates to a method for producing a mask as well as to a surface microtexturing method.
(FR)La présente invention concerne un système (2) de réalisation d'un masque optique (35) pour micro-texturation de surface, le système (2) comprenant : un substrat (10) comportant une surface (11) à texturer; une couche de matière (20) recouvrant la surface (11) du substrat (10) et comportant une surface externe (21)exposée à l'environnement extérieur;et un dispositif de génération et dépôt de gouttelettes (30) sur la surface externe(21) de la couche de matière (20),par condensation selon un agencement (31) particulier, formant le masque optique (35)sur la surface externe(21) de la couche de matière (20). L'invention concerne également une installation de traitement comprenant un tel système (2). L'invention concerne également une méthode de réalisation d'un masque et une méthode de micro-texturation de surface.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : français (FR)
Langue de dépôt : français (FR)