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1. (WO2017219279) PROCÉDÉ ET SYSTÈME DE TRACÉ DE L’ÉNERGIE D'UNE PUCE ÉLECTRONIQUE
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N° de publication :    WO/2017/219279    N° de la demande internationale :    PCT/CN2016/086719
Date de publication : 28.12.2017 Date de dépôt international : 22.06.2016
CIB :
G06F 17/50 (2006.01)
Déposants : ZHANG, Shengze [CN/CN]; (CN)
Inventeurs : ZHANG, Shengze; (CN)
Mandataire : SHENZHEN KEGUAN INTELLECTUAL PROPERTY AGENCY CO., LTD; Room 303, Building 5, Donghuayuan Nanhai Road, Nanshan District Shenzhen, Guangdong 518000 (CN)
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) METHOD AND SYSTEM FOR DRAWING POWER OF ELECTRONIC CHIP
(FR) PROCÉDÉ ET SYSTÈME DE TRACÉ DE L’ÉNERGIE D'UNE PUCE ÉLECTRONIQUE
(ZH) 电子芯片的功率绘制方法及系统
Abrégé : front page image
(EN)A method and device for drawing the power of an electronic chip. The method comprises the following steps: sampling power data of an electronic chip (101); analyzing and processing the sampled data (102); drawing the analyzed and processed power data as a curve of variations in success rate (103). The technical solution has the advantage of implementing power variation curve drawing.
(FR)Procédé et dispositif de tracé de l’énergie d'une puce électronique. Le procédé comprend : l’échantillonnage de données d’énergie d'une puce électronique (101) ; l’analyse et le traitement des données échantillonnées (102) ; et le tracé des données d'énergie analysées et traitées sous la forme d’une courbe de variations d’un taux de réussite (103). La solution technique a pour avantage de permettre le tracé d’une courbe de variation d’énergie.
(ZH)一种电子芯片的功率绘制方法及装置,所述方法包括如下步骤:对电子芯片的功率数据进行采样(101);对该采样的数据进行解析处理(102);将解析处理的功率数据绘制成功率的变化曲线(103)。该技术方案具有实现功率变化曲线绘制的优点。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)