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1. (WO2017218833) FORMATION DE MOTIFS SUR DU GRAPHÈNE À L'AIDE D'UN REVÊTEMENT DE MASQUE DUR
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication : WO/2017/218833 N° de la demande internationale : PCT/US2017/037764
Date de publication : 21.12.2017 Date de dépôt international : 15.06.2017
CIB :
G01N 33/543 (2006.01) ,G01N 27/414 (2006.01) ,H01L 21/02 (2006.01)
G PHYSIQUE
01
MÉTROLOGIE; ESSAIS
N
RECHERCHE OU ANALYSE DES MATÉRIAUX PAR DÉTERMINATION DE LEURS PROPRIÉTÉS CHIMIQUES OU PHYSIQUES
33
Recherche ou analyse des matériaux par des méthodes spécifiques non couvertes par les groupes G01N1/-G01N31/146
48
Matériau biologique, p.ex. sang, urine; Hémocytomètres
50
Analyse chimique de matériau biologique, p.ex. de sang, d'urine; Recherche ou analyse par des méthodes faisant intervenir la formation de liaisons biospécifiques par ligands; Recherche ou analyse immunologique
53
Essais immunologiques; Essais faisant intervenir la formation de liaisons biospécifiques; Matériaux à cet effet
543
avec un support insoluble pour l'immobilisation de composés immunochimiques
G PHYSIQUE
01
MÉTROLOGIE; ESSAIS
N
RECHERCHE OU ANALYSE DES MATÉRIAUX PAR DÉTERMINATION DE LEURS PROPRIÉTÉS CHIMIQUES OU PHYSIQUES
27
Recherche ou analyse des matériaux par l'emploi de moyens électriques, électrochimiques ou magnétiques
26
en recherchant des variables électrochimiques; en utilisant l'électrolyse ou l'électrophorèse
403
Ensembles de cellules et d'électrodes
414
Transistors à effet de champ sensibles aux ions ou chimiques, c. à d. ISFETS ou CHEMFETS
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21
Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
02
Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
Déposants : NANOMEDICAL DIAGNOSTICS, INC.[US/US]; 6185 Cornerston Court East Suite 110 San Diego, CA 92121, US
Inventeurs : PAN, Deng; US
GOLDSMITH, Brett; US
Mandataire : HEISEY, David, E.; US
Données relatives à la priorité :
15/623,27914.06.2017US
62/350,62915.06.2016US
Titre (EN) PATTERNING GRAPHENE WITH A HARD MASK COATING
(FR) FORMATION DE MOTIFS SUR DU GRAPHÈNE À L'AIDE D'UN REVÊTEMENT DE MASQUE DUR
Abrégé :
(EN) Embodiments of the disclosed technology include patterning a graphene sheet for biosensor and electronic applications using lithographic patterning techniques. More specifically, the present disclosure is directed towards the method of patterning a graphene sheet with a hard mask metal layer. The hard mask metal layer may include an inert metal, which may protect the graphene sheet from being contaminated or damaged during the patterning process.
(FR) Des modes de réalisation de la technologie selon l'invention comprennent la formation de motifs sur une feuille de graphène pour un biocapteur et des applications électroniques utilisant des techniques de formation de motifs lithographiques. Plus particulièrement, la présente invention concerne un procédé de formation de motifs sur une feuille de graphène à l'aide d'une couche métallique de masque dur. La couche métallique de masque dur peut comprendre un métal inerte, qui permet de protéger la feuille de graphène d'une contamination ou d'un endommagement pendant le processus de formation de motifs.
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)