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1. (WO2017217502) DÉRIVÉ DE CELLULOSE, COMPOSITION DE RÉSINE À BASE DE CELLULOSE, ARTICLE MOULÉ ET PRODUIT L'UTILISANT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication : WO/2017/217502 N° de la demande internationale : PCT/JP2017/022177
Date de publication : 21.12.2017 Date de dépôt international : 15.06.2017
CIB :
C08B 3/16 (2006.01) ,C08K 3/04 (2006.01) ,C08L 1/08 (2006.01)
Déposants : NEC CORPORATION[JP/JP]; 7-1, Shiba 5-chome, Minato-ku, Tokyo 1088001, JP
Inventeurs : TOYAMA Kiyohiko; JP
IJI Masatoshi; JP
SHIMURA Midori; JP
TANAKA Shukichi; JP
Mandataire : MIYAZAKI Teruo; JP
OGATA Masaaki; JP
Données relatives à la priorité :
2016-12128217.06.2016JP
Titre (EN) CELLULOSE DERIVATIVE, CELLULOSE-BASED RESIN COMPOSITION, MOULDED ARTICLE, AND PRODUCT USING SAME
(FR) DÉRIVÉ DE CELLULOSE, COMPOSITION DE RÉSINE À BASE DE CELLULOSE, ARTICLE MOULÉ ET PRODUIT L'UTILISANT
(JA) セルロース誘導体、セルロース系樹脂組成物、成形体及びこれを用いた製品
Abrégé :
(EN) This cellulose derivative is obtained by substituting at least some of the hydrogen atoms of the hydroxy groups of cellulose with C2-4 acyl groups, C7 or higher long-chain organic groups, and high-refractive-index organic groups.
(FR) Ce dérivé de cellulose est obtenu par substitution d'au moins certains des atomes d'hydrogène des groupes hydroxy de la cellulose par des groupes acyle C2-4, des groupes organiques à longue chaîne et des groupes organiques à indice de réfraction élevé, C7 ou plus.
(JA) セルロースのヒドロキシ基の水素原子の少なくとも一部が、炭素数2~4のアシル基、炭素数7以上の長鎖有機基、及び高屈折率有機基で置換されたセルロース誘導体。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)