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1. (WO2017217300) DISPOSITIF D'IRRADIATION DE LUMIÈRE POLARISÉE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF D'AFFICHAGE À CRISTAUX LIQUIDES
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N° de publication :    WO/2017/217300    N° de la demande internationale :    PCT/JP2017/021126
Date de publication : 21.12.2017 Date de dépôt international : 07.06.2017
CIB :
G02F 1/1337 (2006.01), G02B 5/30 (2006.01)
Déposants : SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 1, Takumi-cho, Sakai-ku, Sakai City, Osaka 5908522 (JP)
Inventeurs : FUJIWARA, Seiji; (--).
SONODA, Takashi; (--).
TOMIMARU, Nobufumi; (--).
WATANABE, Hitoshi; (--).
TERASHITA, Shinichi; (--).
SHIMOSHIKIRYOH, Fumikazu; (--)
Mandataire : YASUTOMI & ASSOCIATES; 5-36, Miyahara 3-chome, Yodogawa-ku, Osaka-shi, Osaka 5320003 (JP)
Données relatives à la priorité :
2016-118085 14.06.2016 JP
Titre (EN) POLARIZED-LIGHT IRRADIATION DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE
(FR) DISPOSITIF D'IRRADIATION DE LUMIÈRE POLARISÉE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF D'AFFICHAGE À CRISTAUX LIQUIDES
(JA) 偏光照射装置及び液晶表示装置の製造方法
Abrégé : front page image
(EN)The present invention provides a polarized-light irradiation device and a method for manufacturing a liquid crystal display device which uses the polarized-light irradiation device, whereby the alignment azimuth angle θ of liquid crystal molecules can be set to a desired angle even when the incidence angle of polarized light on a substrate is not 0° when polarized light is radiated to a photoalignment film. This polarized-light irradiation device is used in alignment processing of a photoalignment film provided on a substrate (10), and is provided with a stage (250) having a mounting surface (251) on which the substrate (10) is mounted, and a polarized-light irradiation part (260) for radiating polarized light toward the mounting surface (251) via a polarizer (210) from a direction inclined with respect to a line normal to the mounting surface (251), the polarized-light azimuth angle α, which is the angle of the polarization axis of the polarizer (210) when the polarization axis of the polarizer (210) is projected to the mounting surface (251) as viewed from the direction of the irradiation axis of the polarized light, satisfying the expression 30° < α < 45°, 45° < α < 60°, -60° < α < -45°, or -45° < α < -30° when the longitudinal direction of the substrate (10) is designated as 0°.
(FR)La présente invention concerne un dispositif d'irradiation de lumière polarisée et un procédé de fabrication d'un dispositif d'affichage à cristaux liquides qui utilise le dispositif d'irradiation de lumière polarisée, l'angle azimutal d'alignement θ des molécules de cristaux liquides pouvant être réglé à un angle désiré même lorsque l'angle d'incidence de la lumière polarisée sur un substrat n'est pas égal à 0° lorsque la lumière polarisée est rayonnée vers un film de photo-alignement. Ce dispositif d'irradiation de lumière polarisée est utilisé dans le traitement d'alignement d'un film de photoalignement disposé sur un substrat (10), et est pourvu d'un étage (250) ayant une surface de montage (251) sur laquelle le substrat (10) est monté, et une partie d'irradiation de lumière polarisée (260) pour rayonner de la lumière polarisée vers la surface de montage (251) par l'intermédiaire d'un polariseur (210) à partir d'une direction inclinée par rapport à une ligne normale à la surface de montage (251), l'angle d'azimut de la lumière polarisée alpha, qui est l'angle de l'axe de polarisation du polariseur (210) lorsque l'axe de polarisation du polariseur (210) est projeté sur la surface de montage (251) telle qu'observée à partir de la direction de l'axe d'irradiation de la lumière polarisée, satisfaisant l'expression de 30° < α < 45°, 45° < α < 60°, -60° < α < -45°, or -45° < α < -30° lorsque la direction longitudinale du substrat (10) est désignée comme 0°
(JA)本発明は、光配向膜に偏光を照射する際、基板への偏光の入射角が0°ではない場合でも、液晶分子の配向方位角θを所望の角度にすることができる偏光照射装置及び上記偏光照射装置を用いた液晶表示装置の製造方法を提供する。 本発明の偏光照射装置は、基板(10)上に設けられた光配向膜の配向処理に用いられる偏光照射装置であって、上記基板(10)を載置する載置面(251)を有するステージ(250)と、上記載置面(251)の法線に対して傾斜した方向から、偏光子(210)を介して上記載置面(251)に向けて偏光を照射する偏光照射部(260)とを備え、上記基板(10)の長手方向を0°としたときに、上記偏光の照射軸方向から見て、上記偏光子(210)の偏光軸を上記載置面(251)に投影したときの上記偏光子(210)の偏光軸の角度である偏光方位角αは、30°<α<45°、45°<α<60°、-60°<α<-45°又は-45°<α<-30°を満たす。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)