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1. (WO2017217125) PROCÉDÉ DE FORMATION DE FILM
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N° de publication :    WO/2017/217125    N° de la demande internationale :    PCT/JP2017/016793
Date de publication : 21.12.2017 Date de dépôt international : 27.04.2017
CIB :
C23C 18/44 (2006.01)
Déposants : C. UYEMURA & CO., LTD. [JP/JP]; 2-6, Dosho-machi 3-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5410045 (JP)
Inventeurs : TANABE Katsuhisa; (JP).
SOMEYA Tatsushi; (JP).
NISHIMURA Naoshi; (JP).
SASAMURA Tetsuya; (JP).
FURUYA Eriko; (JP)
Mandataire : MAEDA & PARTNERS; Shin-Daibiru Bldg. 23F, 2-1, Dojimahama 1-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300004 (JP)
Données relatives à la priorité :
2016-116993 13.06.2016 JP
Titre (EN) FILM FORMATION METHOD
(FR) PROCÉDÉ DE FORMATION DE FILM
(JA) 皮膜形成方法
Abrégé : front page image
(EN)A film formation method is provided with a catalyst film formation step for forming a catalyst film on the surface of a substrate by displacement reduction plating, an intermediate film formation step for forming a palladium plating film on the catalyst film, and a surface film formation step for forming a gold plating film on the palladium plating film.
(FR)Selon l'invention, un procédé de formation d'un film comporte une étape de formation d'un film de catalyseur sur la surface d'un substrat par placage par réduction/déplacement; une étape de formation d'un film intermédiaire pour former un film de placage de palladium sur le film de catalyseur; et une étape de formation d'un film de surface pour former un film de placage d'or sur le film de placage de palladium.
(JA)皮膜の形成方法は、基材の表面に触媒皮膜を置換還元めっきにより形成する触媒皮膜形成工程と、触媒皮膜の上にパラジウムめっき皮膜を形成する中間皮膜形成工程と、パラジウムめっき皮膜の上に金めっき皮膜を形成する表面皮膜形成工程とを備えている。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)