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1. (WO2017217121) DISPOSITIF D'INSPECTION D'ASPECT, SYSTÈME DE TRAITEMENT DE SURFACE, PROCÉDÉ D'INSPECTION D'ASPECT, PROGRAMME ET PROCÉDÉ DE DÉTERMINATION DE REMPLACEMENT DE MATÉRIAU DE PROJECTION
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N° de publication :    WO/2017/217121    N° de la demande internationale :    PCT/JP2017/016481
Date de publication : 21.12.2017 Date de dépôt international : 26.04.2017
CIB :
G01N 21/88 (2006.01), B24C 9/00 (2006.01)
Déposants : SCREEN HOLDINGS CO., LTD. [JP/JP]; Tenjinkita-machi 1-1, Teranouchi-agaru 4-chome, Horikawa-dori, Kamigyo-ku, Kyoto-shi, Kyoto 6028585 (JP)
Inventeurs : TERAOKA, Shigenori; (JP)
Mandataire : FURIKADO, Shoichi; (JP).
YANASE, Yuji; (JP).
OHNISHI, Kazumasa; (JP)
Données relatives à la priorité :
2016-118746 15.06.2016 JP
2017-083355 20.04.2017 JP
Titre (EN) APPEARANCE INSPECTION DEVICE, SURFACE PROCESSING SYSTEM, APPEARANCE INSPECTION METHOD, PROGRAM, AND PROJECTION MATERIAL REPLACEMENT DETERMINATION METHOD
(FR) DISPOSITIF D'INSPECTION D'ASPECT, SYSTÈME DE TRAITEMENT DE SURFACE, PROCÉDÉ D'INSPECTION D'ASPECT, PROGRAMME ET PROCÉDÉ DE DÉTERMINATION DE REMPLACEMENT DE MATÉRIAU DE PROJECTION
(JA) 外観検査装置、表面処理システム、外観検査方法、プログラム、および投射材交換判断方法
Abrégé : front page image
(EN)This appearance inspection device prevents the excessive detection of defects in appearance inspection. An appearance inspection device 3 in a surface processing system 1 images an object of inspection Wk using an imaging unit 31 and has a replacement determination unit 404 for determining that it is necessary to replace a projection material 211 in a projection device 2 if the difference between the brightness of a region to be inspected in the imaged image and the brightness of a reference region in a corresponding reference image is greater than or equal to a prescribed threshold. As a result, it is possible to carry out projection material 211 replacement determination within a range that makes it possible to effectively suppress excessive detection by the appearance inspection device 3 and thereby suppress excessive detection of defects by the appearance inspection device 3.
(FR)L'invention concerne un dispositif d'inspection d'aspect qui empêche la détection excessive de défauts lors de l'inspection d'aspect. Un dispositif d'inspection d'aspect (3) dans un système de traitement de surface (1) capture une image d'un objet d'inspection Wk à l'aide d'une unité d'imagerie (31) et possède une unité de détermination de remplacement (404) permettant de déterminer qu'il est nécessaire de remplacer un matériau de projection (211) dans un dispositif de projection (2) si la différence entre la luminosité d'une région à inspecter dans l'image capturée et la luminosité d'une région de référence dans une image de référence correspondante est supérieure ou égale à un seuil prescrit. En conséquence, il est possible de déterminer un remplacement de matériau de projection (211) dans une plage qui permet de supprimer efficacement une détection excessive par le dispositif d'inspection d'aspect (3), et ainsi de supprimer une détection excessive de défauts par le dispositif d'inspection d'aspect (3).
(JA)外観検査における欠陥の過検出を抑制する外観検査装置である。表面処理システム1における外観検査装置3は、検査対象物Wkを撮像部31で撮像し、撮像画像における検査対象領域の明るさと、対応する参照画像における参照領域の明るさとの差異が所定の閾値以上である場合に、投射装置2において投射材211の交換が必要であると判断する交換判断部404を有する。これにより、外観検査装置3における過検出を有効に抑制できる範囲内で投射材211の交換判断を行い、外観検査装置3における欠陥の過検出を抑制することができる。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)