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1. (WO2017216014) DISPOSITIF ET PROCÉDÉ DE REVÊTEMENT
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N° de publication :    WO/2017/216014    N° de la demande internationale :    PCT/EP2017/063893
Date de publication : 21.12.2017 Date de dépôt international : 08.06.2017
CIB :
C23C 16/04 (2006.01), C23C 16/455 (2006.01), C23C 14/04 (2006.01)
Déposants : AIXTRON SE [DE/DE]; Dornkaulstraße 2 52134 Herzogenrath (DE)
Inventeurs : GERSDORFF, Markus; (DE).
JAKOB, Markus; (DE).
SCHWAMBERA, Markus; (DE)
Mandataire : GRUNDMANN, Dirk; (DE).
MÜLLER, Enno; (DE).
RIEDER, Hans-Joachim; (DE).
BRÖTZ, Helmut; (DE).
BOURREE, Hendrik; (DE)
Données relatives à la priorité :
10 2016 110 884.7 14.06.2016 DE
Titre (DE) BESCHICHTUNGSVORRICHTUNG SOWIE BESCHICHTUNGSVERFAHREN
(EN) COATING DEVICE AND COATING METHOD
(FR) DISPOSITIF ET PROCÉDÉ DE REVÊTEMENT
Abrégé : front page image
(DE)Vorrichtung zum Abscheiden einer Schicht auf ein oder mehreren Substraten (10), mit einer in einem Reaktorgehäuse (1) angeordneten Prozesskammer (2) mit einem temperierbaren Gaseinlassorgan (3) zum Einleiten eines Prozessgasstroms in die Prozesskammer (2) in einer Strömungsrichtung (S) zu den Substraten (10); einem in der Strömungsrichtung (S) unmittelbar nach dem Gaseinlassorgan (3) angeordneten Schirmelement (6), welches in einer Abschirmstellung das Gaseinlassorgan (3) und das Substrat (10) voneinander wärmeisoliert, mehreren in der Strömungsrichtung (S) nach dem Schirmelement (6) angeordneten Maskenhaltern (7, 7') jeweils zur Halterung einer Maske (8, 8'), jeweils zu einem der mehreren Maskenhalter (7, 7') korrespondierende, in der Strömungsrichtung (S) nach den Masken (8, 8') angeordnete körperlich voneinander getrennte Substrathalter (9, 9') zur Halterung zumindest eines der Substrate (10), wobei zu jedem der mehreren Substrathalter (9, 9') ein Verlagerungsorgan (11, 11') zur Verlagerung des Substrathalters (9, 9') von einer Entferntstellung zum Maskenhalter (7, 7'), in der die Substrathalter (9, 9') mit dem Substrat (10, 10') be-und entladbar sind, in eine Benachbartstellung zum Maskenhalter (7, 7'), in der ein auf dem Substrathalter (9, 9') angeordnetes Substrat (10, 10') in eine Anlagestellung an der Maske (8, 8') liegend beschichtbar ist, vorgesehen ist.
(EN)The invention relates to a device for depositing a layer onto one or more substrates (10), comprising: a process chamber (2), which is arranged in a reactor housing (1) and which has a gas inlet element (3), which can be temperature-controlled, for letting a process gas flow into the process chamber (2) in a flow direction (S) to the substrates (10); a shielding element (6), which is arranged directly after the gas inlet element (3) in the flow direction (S) and which thermally insulates the gas inlet element (3) and the substrate (10) from each other in a shielding position; a plurality of mask holders (7, 7') arranged after the shielding element (6) in the flow direction (S), each for holding a mask (8, 8'); substrate holders (9, 9') for holding at least one of the substrates (10), each substrate holder corresponding to one of the plurality of mask holders (7, 7'), which substrate holders are arranged after the masks (8, 8') in the flow direction (S) and are physically separated from each other, wherein, for each of the plurality of substrate holders (9, 9'), a displacement element (11, 11') is provided for displacing the substrate holder (9, 9') from a position distanced from the mask holder (7, 7'), in which position the substrate (10, 10') can be loaded onto and unloaded from the substrate holders (9, 9'), into a position adjacent to the mask holder (7, 7'), in which position a substrate (10, 10') arranged on the substrate holder (9, 9') can be coated while lying in a contact position against the mask (8, 8').
(FR)L'invention concerne un dispositif de dépôt d'une couche sur un ou plusieurs substrats (10), le dispositif comprenant une chambre de traitement (2) disposée dans une enceinte de réacteur (1) et dotée d'un organe d'entrée de gaz (3) pouvant être thremorégulé servant à introduire un flux de gaz de traitement dans la chambre de traitement (2) dans une direction d'écoulement (S) jusqu'aux substrats (10) ; un élément de protection (6) disposé directement après l'organe d'entrée de gaz (3) dans la direction d'écoulement (S), lequel élément de protection isole thermiquement l'un de l'autre l'organe d'entrée de gaz (3) et le substrat (10) dans une position de protection, plusieurs supports de masque (7, 7') disposés après l'élément de protection (6) dans la direction d'écoulement (S) pour supporter respectivement un masque (8, 8'), des supports de substat (9, 9') correspondant respectivement à l'un des plusieurs supports de masque (7, 7'), séparés physiquement les uns des autres et disposés après les masques (8, 8') dans la direction d'écoulement (S) pour supporter au moins l'un des substrats (10). Pour chacun des plusieurs supports de substrat (9, 9'), un organe de déplacement (11, 11') sert au déplacement du support de substrat (9, 9') à partir d'une position éloignée du support de masque (7, 7') dans laquelle les supports de substrat (9, 9') peuvent être chargés sur le substrat (10, 10') ou déchargés de celui-ci jusqu'à une position proche du support de masque (7, 7') dans laquelle un substrat (10, 10') disposé sur le support de substrat (9, 9') peut être revêtu dans une position d'appui contre le masque (8, 8').
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)