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1. (WO2017215944) CONFIGURATION DE RECETTE DE MESURE DE SUBSTRAT POUR AMÉLIORER LA CONCORDANCE D'UN DISPOSITIF
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N° de publication : WO/2017/215944 N° de la demande internationale : PCT/EP2017/063383
Date de publication : 21.12.2017 Date de dépôt international : 01.06.2017
CIB :
G03F 7/20 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
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Exposition; Appareillages à cet effet
Déposants :
ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven, NL
Inventeurs :
GU, Ning; US
WANG, Daimian; US
WANG, Jen-Shiang; US
Mandataire :
PETERS, John; NL
Données relatives à la priorité :
62/350,52515.06.2016US
Titre (EN) SUBSTRATE MEASUREMENT RECIPE CONFIGURATION TO IMPROVE DEVICE MATCHING
(FR) CONFIGURATION DE RECETTE DE MESURE DE SUBSTRAT POUR AMÉLIORER LA CONCORDANCE D'UN DISPOSITIF
Abrégé :
(EN) A method including computing a multi-variable cost function, the multi-variable cost function representing a metric characterizing a degree of matching between a result when measuring a metrology target structure using a substrate measurement recipe and a behavior of a pattern of a functional device, the metric being a function of a plurality of design variables comprising a parameter of the metrology target structure, and adjusting the design variables and computing the cost function with the adjusted design variables, until a certain termination condition is satisfied.
(FR) L'invention concerne un procédé comprenant le calcul d'une fonction de coût à variables multiples, la fonction de coût à variables multiples représentant un indice de mesure qui caractérise un degré de concordance entre un résultat lors de la mesure d'une structure cible de métrologie en utilisant une recette de mesure de substrat et un comportement d'un motif d'un dispositif fonctionnel, l'indice de mesure étant une fonction d'une pluralité de variables de conception comprenant un paramètre de la structure cible de métrologie, et l'ajustement des variables de conception et le calcul de la fonction de coût avec les variables de conception ajustées jusqu'à ce qu'une condition d'achèvement donnée soit satisfaite.
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)