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1. (WO2017215195) SUBSTRAT D'AFFICHAGE COMPORTANT UNE COUCHE ORGANIQUE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
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N° de publication :    WO/2017/215195    N° de la demande internationale :    PCT/CN2016/107066
Date de publication : 21.12.2017 Date de dépôt international : 24.11.2016
CIB :
H01L 21/77 (2017.01), H01L 27/12 (2006.01)
Déposants : BOE TECHNOLOGY GROUP CO., LTD. [CN/CN]; No.10 Jiuxianqiao Rd., Chaoyang District, Beijing 100015 (CN).
HEFEI XINSHENG OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CO., LTD. [CN/CN]; Xinzhan Industrial Park, Hefei, Anhui 230012 (CN)
Inventeurs : ZOU, Zhixiang; (CN).
YANG, Chengshao; (CN).
SONG, Botao; (CN).
HUANG, Yinhu; (CN)
Mandataire : TEE&HOWE INTELLECTUAL PROPERTY ATTORNEYS; Yuan CHEN 10th Floor, Tower D, Minsheng Financial Center, 28 Jianguomennei Avenue, Dongcheng District, Beijing 100005 (CN)
Données relatives à la priorité :
201610440115.1 17.06.2016 CN
Titre (EN) DISPLAY SUBSTRATE HAVING AN ORGANIC LAYER AND FABRICATING METHOD THEREOF
(FR) SUBSTRAT D'AFFICHAGE COMPORTANT UNE COUCHE ORGANIQUE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
Abrégé : front page image
(EN)A method of fabricating a display substrate (400) having an organic layer (408) for reducing parasitic capacitance between electrodes in different layers. The method includes forming the organic layer (408) on a base substrate (401), subjecting the organic layer (408) to a surface treatment process to descum organic residues from a surface of the organic layer (408), and forming a passivation layer (410) on a side of the organic layer (408) distal to the base substrate (401) subsequent to subjecting the organic layer (408) to the surface treatment process.
(FR)L'invention porte sur un procédé de fabrication d'un substrat d'affichage (400) comportant une couche organique (408) pour réduire la capacité parasite entre des électrodes présentes dans différentes couches. Le procédé consiste à former la couche organique (408) sur un substrat de base (401), à soumettre la couche organique (408) à un processus de traitement de surface destiné à enlever les résidus organiques d'une surface de la couche organique (408), et à former une couche de passivation (410) sur une face de la couche organique (408) qui est éloignée du substrat de base (401) après que la couche organique (408) a été soumise au processus de traitement de surface.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)