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1. (WO2017213997) PLACEMENT ÉLECTRIQUEMENT PERTINENT DE CIBLES DE MÉTROLOGIE À L'AIDE D'UNE ANALYSE DE CONCEPTION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication :    WO/2017/213997    N° de la demande internationale :    PCT/US2017/035807
Date de publication : 14.12.2017 Date de dépôt international : 02.06.2017
CIB :
H01L 21/66 (2006.01)
Déposants : KLA-TENCOR CORPORATION [US/US]; Legal Department One Technology Drive Milpitas, CA 95035 (US)
Inventeurs : KEKARE, Sagar, A.; (US)
Mandataire : MCANDREWS, Kevin; (US).
MORRIS, Elizabeth M. N; (US)
Données relatives à la priorité :
62/346,774 07.06.2016 US
62/427,009 28.11.2016 US
15/385,564 20.12.2016 US
Titre (EN) ELECTRICALLY RELEVANT PLACEMENT OF METROLOGY TARGETS USING DESIGN ANALYSIS
(FR) PLACEMENT ÉLECTRIQUEMENT PERTINENT DE CIBLES DE MÉTROLOGIE À L'AIDE D'UNE ANALYSE DE CONCEPTION
Abrégé : front page image
(EN)Methods and systems for determining electrically relevant placement of metrology targets using design analysis are disclosed. The method may include: identifying at least one critical design element of an integrated circuit based on a design of the integrated circuit; determining whether the design of the integrated circuit allows for an insertion of a metrology target in a vicinity of the at least one critical design element; and modifying the design of the integrated circuit by inserting a metrology target into the vicinity of the at least one critical design element when the design of the integrated circuit allows for the insertion of the metrology target.
(FR)L'invention porte sur des procédés et sur des systèmes pour déterminer un placement électriquement pertinent de cibles de métrologie à l'aide d'une analyse de conception. Le procédé peut consister : à identifier au moins un élément de conception critique d'un circuit intégré sur la base d'une conception du circuit intégré ; à déterminer si la conception du circuit intégré permet l'insertion d'une cible de métrologie à proximité du ou des éléments de conception critiques ; et à modifier la conception du circuit intégré par insertion d'une cible de métrologie à proximité du ou des éléments de conception critiques quand la conception du circuit intégré permet l'insertion de la cible de métrologie.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)