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1. (WO2017213864) MATÉRIAU À BASE DE COPOLYESTER AMORPHE DANS UN MODULE PHOTOVOLTAÏQUE
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N° de publication :    WO/2017/213864    N° de la demande internationale :    PCT/US2017/034371
Date de publication : 14.12.2017 Date de dépôt international : 25.05.2017
CIB :
H01L 31/049 (2014.01), H01L 31/0376 (2006.01), H01L 31/048 (2014.01), H01L 31/068 (2012.01)
Déposants : SOLICULTURE, INC. [US/US]; 4401 Scotts Valley Dr. Scotts Valley, California 95066 (US)
Inventeurs : OSBORN, Melissa; (US).
ANDERSON, Ingrid; (US)
Mandataire : CHO, Steve; (US)
Données relatives à la priorité :
15/179,749 10.06.2016 US
Titre (EN) AMORPHOUS COPOLYESTER-BASED MATERIAL IN A PHOTOVOLTAIC MODULE
(FR) MATÉRIAU À BASE DE COPOLYESTER AMORPHE DANS UN MODULE PHOTOVOLTAÏQUE
Abrégé : front page image
(EN)The invention relates to the use in a photovoltaic module of a monolayer film as a backsheet, this composition comprising, with respect to the total weight of the composition from 50 to 100% of amorphous copolyester. The invention further comprises a backsheet of the amorphous copolyester film with two optional films adhered to it, an adhesion promoting film and an anti-weathering film. The invention further encompasses a photovoltaic module comprising the backsheet composition, and an optional scrim layer, according to the invention.
(FR)L'invention concerne l'utilisation, dans un module photovoltaïque, d'un film monocouche en tant que couche arrière. Par rapport au poids total de la composition, cette composition comprend de 50 à 100 % de copolyester amorphe. L'invention concerne en outre une couche arrière du film de copolyester amorphe sur laquelle sont fixés par adhérence deux films facultatifs, à savoir un film favorisant l'adhérence et un film anti-vieillissement. L'invention concerne en outre un module photovoltaïque comprenant la composition de couche arrière et une couche de renforcement facultative, selon l'invention.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)