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1. (WO2017213465) DISPOSITIF ET PROCÉDÉ DE REFUSION LASER BOBINE À BOBINE

Pub. No.:    WO/2017/213465    International Application No.:    PCT/KR2017/006039
Publication Date: Fri Dec 15 00:59:59 CET 2017 International Filing Date: Sat Jun 10 01:59:59 CEST 2017
IPC: B23K 1/005
H01S 5/00
B23K 3/06
Applicants: CRUCIALMACHINES CO.,LTD.
크루셜머신즈 주식회사
Inventors: KIM, Byung Rock
김병록
CHO, Wan Ki
조완기
CHOI, Jae Joon
최재준
Title: DISPOSITIF ET PROCÉDÉ DE REFUSION LASER BOBINE À BOBINE
Abstract:
La présente invention concerne un procédé de refusion de couche bobine à bobine, qui émet un faisceau laser uniformisé, qui peut facilement ajuster la zone d'émission, et qui est destiné à améliorer la productivité. Un mode de réalisation de la présente invention concerne un procédé de refusion de couche bobine à bobine comprenant les étapes consistant à : a) transférer un substrat, qui a été enroulé sous forme d'un type de rouleau, vers un côté tout en le déroulant; b) former une partie de brasure sur le substrat; c) placer un élément cible d'émission sur la partie de brasure et placer un élément cible de non-émission sur le substrat; d) émettre par la surface un faisceau laser vers la partie de brasure, sur laquelle est placé l'élément cible d'émission, de sorte que l'élément cible d'émission est fixé au substrat; e) inspecter la structure de substrat fabriquée à l'étape d); et f) enrouler la structure de substrat sous forme d'un type de rouleau.