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1. (WO2017213277) APPAREIL DE DÉPÔT UTILISANT L'ÉVAPORATION DESCENDANTE
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N° de publication : WO/2017/213277 N° de la demande internationale : PCT/KR2016/006111
Date de publication : 14.12.2017 Date de dépôt international : 09.06.2016
CIB :
H01L 51/56 (2006.01) ,H01L 51/00 (2006.01) ,C23C 14/24 (2006.01) ,C23C 14/26 (2006.01) ,C23C 14/12 (2006.01) ,C23C 14/56 (2006.01)
Déposants : FINEVA. INC.[KR/KR]; #302-309, 267, Gajeong-ro Yuseong-gu Daejeon 34113, KR
Inventeurs : KIM, Jung-Hyung; KR
SEO, In-Yong; KR
Mandataire : IPS PATENT FIRM; 5th Fl., 14, Banpo-daero 23-gil Seocho-gu Seoul 06656, KR
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) DEPOSITION APPARATUS USING TOP-DOWN EVAPORATION
(FR) APPAREIL DE DÉPÔT UTILISANT L'ÉVAPORATION DESCENDANTE
(KO) 하향식 증발 증착 장치
Abrégé : front page image
(EN) The present invention provides a deposition apparatus and method using top-down evaporation. The deposition apparatus using top-down evaporation comprises: a dielectric tube mounted around a through hole formed in an upper plate of a vacuum container; an induction coil arranged to surround the dielectric tube; an alternating current power supply for providing alternating current power to the induction coil; and an evaporation unit which is disposed inside the dielectric tube, is induction-heated by the induction coil, receives a deposition material, and discharges the deposition material. The evaporation unit includes: a deposition material receiving space; a gas guiding part protruding from the lower surface of the deposition material receiving space and having a through hole at the center thereof; and a cover part covering the gas guiding part and formed of a conductive material. The cover part is submerged in the deposition material, and the deposition material is injected through the through hole of the gas guiding part.
(FR) La présente invention concerne un appareil et un procédé de dépôt utilisant l'évaporation descendante. L'appareil de dépôt utilisant l'évaporation descendante comprend : un tube diélectrique monté autour d'un trou traversant formé dans une plaque supérieure d'un contenant sous vide ; une bobine d'induction agencée de manière à entourer le tube diélectrique ; une alimentation en courant alternatif pour fournir un courant alternatif à la bobine d'induction ; et une unité d'évaporation qui est placée à l'intérieur du tube diélectrique, est chauffée par induction par la bobine d'induction, reçoit un matériau de dépôt et décharge le matériau de dépôt. L'unité d'évaporation comporte : un espace de réception de matériau de dépôt ; une partie de guidage de gaz faisant saillie de la surface inférieure de l'espace de réception de matériau de dépôt et présentant un trou traversant en son centre ; et une partie couvercle recouvrant la partie de guidage de gaz et formée d'un matériau conducteur. La partie couvercle est immergée dans le matériau de dépôt, et le matériau de dépôt est injecté à travers le trou traversant de la partie de guidage de gaz.
(KO) 본 발명은 하향식 증발 증착 장치 및 증발 증착 방법을 제공한다. 상기 하향식 증발 증착 장치는 진공 용기의 상판에 형성된 관통홀의 주위에 장착된 유전체튜브; 상기 유전체 튜브를 감싸도록 배치된 유도 코일; 상기 유도 코일에 교류 전력을 제공하는 교류 전원; 및 상기 유전체 튜브의 내부에 배치되고 상기 유도 코일에 의하여 유도가열되고 증착 물질을 수납하고 증착 물질을 토출하는 증발부를 포함한다. 상기 증발부는 증착 물질 수납 공간; 상기 증착 물질 수납 공간의 하부면에서 돌출되고 중심에 관통홀을 포함하는 가스 가이드부; 및 상기 가스 가이드부를 덮고 있는 도전체로 형성된 덮개부를 포함한다. 상기 덮개부는 상기 증착 물질에 의하여 잠기고, 상기 증착 물질은 상기 가스 가이드부의 관통홀을 통하여 분사된다.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : coréen (KO)
Langue de dépôt : coréen (KO)