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1. (WO2017213016) PROCÉDÉ DE FORMATION DE MODELAGE À L'ÉCHELLE NANOMÉTRIQUE SUR LA BASE DE LA FORMATION DE TROUS D'ÉPINGLE COMMANDÉS

Pub. No.:    WO/2017/213016    International Application No.:    PCT/JP2017/020439
Publication Date: Fri Dec 15 00:59:59 CET 2017 International Filing Date: Fri Jun 02 01:59:59 CEST 2017
IPC: B29C 41/12
B29C 59/02
B82Y 40/00
H01L 21/30
H01L 51/48
Applicants: OKINAWA INSTITUTE OF SCIENCE AND TECHNOLOGY SCHOOL CORPORATION
Inventors: QI, Yabing
ONO, Luis Katsuya
Title: PROCÉDÉ DE FORMATION DE MODELAGE À L'ÉCHELLE NANOMÉTRIQUE SUR LA BASE DE LA FORMATION DE TROUS D'ÉPINGLE COMMANDÉS
Abstract:
L'invention concerne un procédé de modelage à l'échelle nanométrique. Le procédé consiste à : mélanger des quantités prédéfinies d'un premier solvant et d'un second solvant pour produire un solvant, le premier solvant et le second solvant étant immiscibles l'un avec l'autre ; dissoudre un matériau de soluté dans le solvant pour produire un matériau de revêtement, le matériau de soluté ayant une solubilité qui est plus élevée dans le premier solvant que dans le second solvant ; appliquer le matériau de revêtement sur un substrat pour former une pluralité de trous d'épingle dans le matériau de revêtement. La formation de la pluralité de trous d'épingle est associée à des gouttes de suspension principalement constituées du second solvant, séparé du matériau de soluté dissous dans le premier solvant, dans le matériau de revêtement. L'invention concerne également un procédé de fabrication d'un tampon à motif l'échelle nanométrique sur la base du procédé ci-dessus.