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1. (WO2017211422) PROCÉDÉ DE TRAITEMENT D'UN SUBSTRAT ET SYSTÈME DE SUPPORT DE SUBSTRAT

Pub. No.:    WO/2017/211422    International Application No.:    PCT/EP2016/063197
Publication Date: Fri Dec 15 00:59:59 CET 2017 International Filing Date: Fri Jun 10 01:59:59 CEST 2016
IPC: G03F 7/20
H01F 7/02
H01L 21/683
Applicants: APPLIED MATERIALS, INC.
ZILBAUER, Thomas Werner
KRAUSS, Harald
Inventors: ZILBAUER, Thomas Werner
KRAUSS, Harald
Title: PROCÉDÉ DE TRAITEMENT D'UN SUBSTRAT ET SYSTÈME DE SUPPORT DE SUBSTRAT
Abstract:
Des modes de réalisation de la présente invention concernent un procédé de traitement d'un substrat. Le procédé consiste à prendre en mandrin le substrat sur une surface de support comportant une pluralité de zones de mandrin espacées d'un ensemble mandrin électrostatique ou magnétique, au moins une zone de mandrin redondante (31) de la pluralité de zones de mandrin offrant une force de préhension redondante telle que le substrat est maintenu au niveau de la surface de support par les zones de mandrin restantes (33) de la pluralité de zones de mandrin dans le cas d'une défaillance ou d'un court-circuit de ladite zone de mandrin redondante. Selon un autre aspect, l'invention porte sur un système de support de substrat (20) destiné à mettre en œuvre les procédés tels que définis dans la description.