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1. (WO2017211215) DISPOSITIF DE TRAITEMENT FLUIDIQUE ET SON PROCÉDÉ DE PRÉPARATION
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N° de publication :    WO/2017/211215    N° de la demande internationale :    PCT/CN2017/086780
Date de publication : 14.12.2017 Date de dépôt international : 01.06.2017
CIB :
B01D 46/00 (2006.01), A62B 23/06 (2006.01)
Déposants : YANG, Guoyong [CN/CN]; (CN).
SHI, Jianwei [CN/CN]; (CN).
CAI, Yong [CN/CN]; (CN).
MAO, Lingfeng [CN/CN]; (CN)
Inventeurs : YANG, Guoyong; (CN).
SHI, Jianwei; (CN)
Mandataire : NANJING LI & FENG INTELLECTUAL PROPERTY AGENCY (SPECIAL GENERAL PARTNERSHIP); WANG, Feng Room 1801, Jiangsu International Trade Building No. 50, Zhonghua Road, Qinhuai District Nanjing, Jiangsu 211100 (CN)
Données relatives à la priorité :
201610398449.7 07.06.2016 CN
201610399546.8 07.06.2016 CN
201610399542.X 07.06.2016 CN
201610398960.7 07.06.2016 CN
201610399527.5 07.06.2016 CN
201610398435.5 07.06.2016 CN
201610399521.8 07.06.2016 CN
Titre (EN) FLUID PROCESSING DEVICE AND PREPARATION METHOD THEREFOR
(FR) DISPOSITIF DE TRAITEMENT FLUIDIQUE ET SON PROCÉDÉ DE PRÉPARATION
(ZH) 流体处理装置及其制备方法
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed are a fluid processing device and a preparation method therefor. The fluid processing device comprises: a substrate (101) having a fluid channel, and a fluid processing mechanism for processing a fluid to be processed when the fluid to be processed in a mixture with selected particles flows through the fluid channel or prior to flowing through the fluid channel; the fluid processing mechanism is distributed on a first surface (1011) of the substrate (101) or inside the fluid channel and has a fluid processing microstructure, the diameter of the opening through which the fluid flows in the fluid processing microstructure is greater than 0 but less than the particle size of the selected particles. The fluid processing device has the characteristics of a large flux, a small flow resistance, and efficient removal of micro/nano scale particles in the fluid, and is reusable, has a long service life and is suitable for large-scale mass production. The present invention also relates to a method for preparing the fluid processing device.
(FR)La présente invention concerne un dispositif de traitement fluidique et son procédé de préparation. Le dispositif de traitement de fluide comprend : un substrat (101) ayant un canal fluidique, et un mécanisme de traitement fluidique pour traiter un fluide à traiter lorsque le fluide à traiter dans un mélange avec des particules sélectionnées s'écoule à travers le canal fluidique, ou avant de s'écouler à travers le canal fluidique ; le mécanisme de traitement fluidique est réparti sur une première surface (1011) du substrat (101) ou à l'intérieur du canal fluidique et présente une microstructure de traitement fluidique, le diamètre de l'ouverture à travers laquelle le fluide s'écoule dans la microstructure de traitement fluidique est supérieur à 0 mais inférieur à la granulométrie des particules sélectionnées. Le dispositif de traitement fluidique présente les caractéristiques d'un grand flux, d'une faible résistance à l'écoulement et d'une élimination efficace des microparticules/nanoparticules dans le fluide, et est réutilisable, a une longue durée de vie et est adapté à une production de masse à grande échelle. La présente invention concerne également un procédé permettant de préparer le dispositif de traitement fluidique.
(ZH)一种流体处理装置及其制备方法。所述流体处理装置包括:具有流体通道的基体(101),以及,流体处理机构,用以在混杂有选定颗粒的待处理流体流经所述流体通道时或者流经所述流体通道前对所述待处理流体进行处理;所述流体处理机构分布于所述基体(101)的第一表面(1011)或者所述流体通道内部,并具有流体处理微结构,所述流体处理微结构中用以流体通过的开口直径大于0但小于所述选定颗粒的粒径。流体处理装置具有通量大、流阻小、能高效清除流体中微/纳米级颗粒等特点,可重复使用,使用寿命长,且适于规模化大批量生产。还涉及上述流体处理装置的制备方法。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)