Certains contenus de cette application ne sont pas disponibles pour le moment.
Si cette situation persiste, veuillez nous contacter àObservations et contact
1. (WO2017211082) DISPOSITIF ET PROCÉDÉ DE POLISSAGE DOUBLE FACE COMPORTANT UN TAMPON DE POLISSAGE DONT LA RIGIDITÉ EST RÉGLÉE PAR UN CHAMP MAGNÉTIQUE DE GROUPE DYNAMIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication : WO/2017/211082 N° de la demande internationale : PCT/CN2017/070456
Date de publication : 14.12.2017 Date de dépôt international : 06.01.2017
CIB :
B24B 7/17 (2006.01) ,B24B 47/16 (2006.01) ,C09K 3/14 (2006.01)
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
24
MEULAGE; POLISSAGE
B
MACHINES, DISPOSITIFS OU PROCÉDÉS POUR MEULER OU POUR POLIR; DRESSAGE OU REMISE EN ÉTAT DES SURFACES ABRASIVES; ALIMENTATION DES MACHINES EN MATÉRIAUX DE MEULAGE, DE POLISSAGE OU DE RODAGE
7
Machines ou dispositifs pour meuler les surfaces planes des pièces, y compris ceux pour le polissage des surfaces planes en verre; Accessoires à cet effet
10
Machines ou dispositifs conçus pour une seule opération particulière
16
pour meuler des faces d'extrémités de pièces, p.ex. de calibres, de rouleaux, d'écrous ou de segments de piston
17
pour le meulage simultané des faces d'extrémités de pièce opposées et parallèles, p.ex. à disque de meulage double
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
24
MEULAGE; POLISSAGE
B
MACHINES, DISPOSITIFS OU PROCÉDÉS POUR MEULER OU POUR POLIR; DRESSAGE OU REMISE EN ÉTAT DES SURFACES ABRASIVES; ALIMENTATION DES MACHINES EN MATÉRIAUX DE MEULAGE, DE POLISSAGE OU DE RODAGE
47
Entraînement ou transmission des machines ou dispositifs à meuler; Équipement à cet effet
10
pour entraîner dans leur mouvement de rotation ou de va-et-vient les arbres porte-meules ou les arbres porte-pièces
16
animés d'un mouvement de va-et-vient, p.ex. pendant lequel le sens de rotation de l'arbre de travail est inversé
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
09
COLORANTS; PEINTURES; PRODUITS À POLIR; RÉSINES NATURELLES; ADHÉSIFS; COMPOSITIONS NON PRÉVUES AILLEURS; UTILISATIONS DE SUBSTANCES, NON PRÉVUES AILLEURS
K
SUBSTANCES POUR DES APPLICATIONS NON PRÉVUES AILLEURS; APPLICATIONS DE SUBSTANCES NON PRÉVUES AILLEURS
3
Substances non couvertes ailleurs
14
Substances antidérapantes; Abrasifs
Déposants :
广东工业大学 GUANGDONG UNIVERSITY OF TECHNOLOGY [CN/CN]; 中国广东省广州市 越秀区东风东路729号大院 729 Dongfeng East Rd., Yuexiu District Guangzhou, Guangdong 510062, CN
Inventeurs :
潘继生 PAN, Jisheng; CN
阎秋生 YAN, Qiusheng; CN
李卫华 LI, Weihua; CN
Mandataire :
北京集佳知识产权代理有限公司 UNITALEN ATTORNEYS AT LAW; 中国北京市 朝阳区建国门外大街22号赛特广场7层 7th Floor, Scitech Place No.22, Jian Guo Men Wai Ave. Chao Yang District Beijing 100004, CN
Données relatives à la priorité :
201610406771.X08.06.2016CN
Titre (EN) DOUBLE-SIDED POLISHING DEVICE AND METHOD HAVING POLISHING PAD WITH STIFFNESS CONTROLLED BY DYNAMIC CLUSTER MAGNETIC FIELD
(FR) DISPOSITIF ET PROCÉDÉ DE POLISSAGE DOUBLE FACE COMPORTANT UN TAMPON DE POLISSAGE DONT LA RIGIDITÉ EST RÉGLÉE PAR UN CHAMP MAGNÉTIQUE DE GROUPE DYNAMIQUE
(ZH) 一种集群动态磁场控制抛光垫刚度的双面抛光装置及方法
Abrégé :
(EN) A double-sided polishing device and method having a polishing pad with the stiffness controlled by a dynamic cluster magnetic field, realizing, by means of adjusting the stiffness of a flexible polishing pad, a complete process from rough polishing to finish polishing on double sides of a workpiece, and addressing the problem of conventional machining processes in which machining non-uniformity of a workpiece is caused by inconsistent relative velocities of different locations of the workpiece with respect to a polishing pad. The double-sided polishing device having a polishing pad with the stiffness controlled by a dynamic cluster magnetic field comprises: a mechanism for generating a cluster magnetic control polishing pad having stiffness variability, wherein the mechanism comprises a first magnetic field-generating block and a second magnetic field-generating block arranged symmetrically, and the first and second magnetic field-generating blocks each comprise: a casing (11), an eccentric swing main shaft (54), eccentric camshafts (51), a magnet mounting base (46), permanent magnets (47), and a motor (60); a quick workpiece-loading mechanism comprising an operation recess (10), a holding plate (41), a linking rod (45), a hinge plate (40), a hinge fixer (44), a rectangular magnet (39), a soft iron block (23), a ring-shaped cast iron member (24), and a bar-shaped permanent magnet (25); and a workpiece motion drive mechanism comprising a support block (2), a transverse beam (4), a horizontal linear motor (3), a vertical beam (22), and a vertical linear motor (7).
(FR) La présente invention concerne un dispositif et un procédé de polissage double face comprenant un tampon de polissage dont la rigidité est réglée par un champ magnétique de groupe dynamique, réalisant, par réglage de la rigidité d'un tampon de polissage souple, un procédé complet allant du polissage grossier au polissage de finition sur les deux faces d'une pièce à usiner, et aborder le problème des procédés d'usinage classiques dans lesquels l'usinage non uniforme d'une pièce est provoqué par des vitesses relatives incohérentes de différents emplacements de la pièce par rapport à un tampon de polissage. Le dispositif de polissage double face présentant un tampon de polissage dont la rigidité est réglée par un champ magnétique de groupe dynamique comprenant : un mécanisme permettant de générer un tampon de polissage à commande magnétique en groupe présentant une variabilité de rigidité, le mécanisme comprenant un premier bloc de génération de champ magnétique et un second bloc de génération de champ magnétique disposés symétriquement, et les premier et second blocs de génération de champ magnétique comprennent chacun : un boîtier (11), un arbre principal d'oscillation excentrique (54), des arbres à cames excentriques (51), une base de montage d'aimants (46), des aimants permanents (47) et un moteur (60) ; un mécanisme de chargement rapide de pièce comprenant un évidement d'actionnement (10), une plaque de maintien (41), une tige de liaison (45), une plaque d'articulation (40), un élément de fixation d'articulation (44), un aimant rectangulaire (39), un bloc de fer doux (23), un élément en fonte en forme d'anneau (24), et un aimant permanent en forme de barre (25) ; et un mécanisme d'entraînement de mouvement de pièce comprenant un bloc de support (2), une poutre transversale (4), un moteur linéaire horizontal (3), une poutre verticale (22) et un moteur linéaire vertical (7).
(ZH) 一种集群动态磁场控制抛光垫刚度的双面抛光装置及方法,通过调节柔性抛光垫刚度实现工件双面粗抛光到精抛光的全过程,并解决传统加工过程中工件不同位置与抛光垫之间的相对速度不一致而造成工件加工不均匀的问题。所述集群动态磁场控制抛光垫刚度的双面抛光装置包括:可变刚度集群磁控抛光垫发生机构,该机构包括对称设置的第一磁场发生块和第二磁场发生块;所述第一磁场发生块和第二磁场发生块均包括:壳体(11)、偏摆主轴(54)、偏心凸轮轴(51)、磁铁安装座(46)、永磁铁(47)和电机(60);所述工件快速装夹机构包括工作槽(10)、夹板(41)、连杆(45)、铰板(40)、固定铰(44)、方形磁铁(39)、电工软铁块(23)、圆环形铸铁(24)和条形永磁铁(25);所述工件运动驱动机构包括支撑块(2)、横梁(4)、水平直线电机(3)、垂直梁(22)和垂直直线电机(7)。
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)