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1. (WO2017210583) PROCÉDÉS ET APPAREIL POUR DÉPOSER DES MATÉRIAUX SUR UN SUBSTRAT CONTINU
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N° de publication :    WO/2017/210583    N° de la demande internationale :    PCT/US2017/035728
Date de publication : 07.12.2017 Date de dépôt international : 02.06.2017
CIB :
C04B 35/628 (2006.01), C04B 35/80 (2006.01), C23C 16/54 (2006.01), C23C 16/04 (2006.01)
Déposants : APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, California 95054 (US)
Inventeurs : ISHIKAWA, David Masayuki; (US).
BURROWS, Brian H.; (US)
Mandataire : TABOADA, Alan; (US).
MOSER, JR., Raymond R.; (US).
LINARDAKIS, Leonard P.; (US)
Données relatives à la priorité :
62/344,962 02.06.2016 US
Titre (EN) METHODS AND APPARATUS FOR DEPOSITING MATERIALS ON A CONTINUOUS SUBSTRATE
(FR) PROCÉDÉS ET APPAREIL POUR DÉPOSER DES MATÉRIAUX SUR UN SUBSTRAT CONTINU
Abrégé : front page image
(EN)Methods and apparatus for depositing material on a continuous substrate are provided herein. In some embodiments, an apparatus for processing a continuous substrate includes: a first chamber having a first volume; a second chamber having a second volume fluidly coupled to the first volume; and a plurality of process chambers, each having a process volume defining a processing path between the first chamber and the second chamber, wherein the process volume of each process chamber is fluidly coupled to each other, to the first volume, and to the second volume, and wherein the first chamber, the second chamber, and the plurality of process chambers are configured to process a continuous substrate that extends from the first chamber, through the plurality of process chambers, and to the second chamber.
(FR)L'invention concerne des procédés et un appareil de dépôt d'un matériau sur un substrat continu. Dans certains modes de réalisation, un appareil pour traiter un substrat continu comprend : une première chambre présentant un premier volume ; une deuxième chambre présentant un deuxième volume couplé fluidiquement au premier volume ; et une pluralité de chambres de traitement, chacune présentant un volume de traitement définissant un trajet de traitement entre la première chambre et la deuxième chambre, le volume de traitement de chaque chambre de traitement étant fluidiquement couplé l'un à l'autre, au premier volume et au deuxième volume et la première chambre, la deuxième chambre et la pluralité de chambres de traitement étant conçues pour traiter un substrat continu qui s'étend à partir de la première chambre, à travers la pluralité de chambres de traitement et jusqu'à la deuxième chambre.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)