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1. (WO2017210583) PROCÉDÉS ET APPAREIL POUR DÉPOSER DES MATÉRIAUX SUR UN SUBSTRAT CONTINU

Pub. No.:    WO/2017/210583    International Application No.:    PCT/US2017/035728
Publication Date: Fri Dec 08 00:59:59 CET 2017 International Filing Date: Sat Jun 03 01:59:59 CEST 2017
IPC: C04B 35/628
C04B 35/80
C23C 16/54
C23C 16/04
Applicants: APPLIED MATERIALS, INC.
Inventors: ISHIKAWA, David Masayuki
BURROWS, Brian H.
Title: PROCÉDÉS ET APPAREIL POUR DÉPOSER DES MATÉRIAUX SUR UN SUBSTRAT CONTINU
Abstract:
L'invention concerne des procédés et un appareil de dépôt d'un matériau sur un substrat continu. Dans certains modes de réalisation, un appareil pour traiter un substrat continu comprend : une première chambre présentant un premier volume ; une deuxième chambre présentant un deuxième volume couplé fluidiquement au premier volume ; et une pluralité de chambres de traitement, chacune présentant un volume de traitement définissant un trajet de traitement entre la première chambre et la deuxième chambre, le volume de traitement de chaque chambre de traitement étant fluidiquement couplé l'un à l'autre, au premier volume et au deuxième volume et la première chambre, la deuxième chambre et la pluralité de chambres de traitement étant conçues pour traiter un substrat continu qui s'étend à partir de la première chambre, à travers la pluralité de chambres de traitement et jusqu'à la deuxième chambre.