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1. (WO2017210478) SYSTÈME ET PROCÉDÉS DE PULVÉRISATION PAR DÉPÔT DE REVÊTEMENTS PARTICULAIRES
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N° de publication : WO/2017/210478 N° de la demande internationale : PCT/US2017/035532
Date de publication : 07.12.2017 Date de dépôt international : 01.06.2017
CIB :
B05B 7/14 (2006.01) ,B05B 7/24 (2006.01) ,B01J 19/08 (2006.01)
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
05
PULVÉRISATION OU ATOMISATION EN GÉNÉRAL; APPLICATION DE LIQUIDES OU D'AUTRES MATÉRIAUX FLUIDES AUX SURFACES, EN GÉNÉRAL
B
APPAREILLAGES DE PULVÉRISATION; APPAREILLAGES D'ATOMISATION; AJUTAGES OU BUSES
7
Appareillages de pulvérisation pour débiter des liquides ou d'autres matériaux fluides provenant de plusieurs sources, p.ex. un liquide et de l'air, une poudre et un gaz
14
agencés pour projeter des matériaux en particules
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
05
PULVÉRISATION OU ATOMISATION EN GÉNÉRAL; APPLICATION DE LIQUIDES OU D'AUTRES MATÉRIAUX FLUIDES AUX SURFACES, EN GÉNÉRAL
B
APPAREILLAGES DE PULVÉRISATION; APPAREILLAGES D'ATOMISATION; AJUTAGES OU BUSES
7
Appareillages de pulvérisation pour débiter des liquides ou d'autres matériaux fluides provenant de plusieurs sources, p.ex. un liquide et de l'air, une poudre et un gaz
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avec des moyens, p.ex. un récipient, pour alimenter en liquide ou autre matériau fluide un dispositif de décharge
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
01
PROCÉDÉS OU APPAREILS PHYSIQUES OU CHIMIQUES EN GÉNÉRAL
J
PROCÉDÉS CHIMIQUES OU PHYSIQUES, p.ex. CATALYSE, CHIMIE DES COLLOÏDES; APPAREILLAGE APPROPRIÉ
19
Procédés chimiques, physiques ou physico-chimiques en général; Appareils appropriés
08
Procédés utilisant l'application directe de l'énergie ondulatoire ou électrique, ou un rayonnement particulaire; Appareils à cet usage
Déposants :
ARIZONA BOARD OF REGENTS ON BEHALF OF ARIZONA STATE UNIVERSITY [US/US]; 699 S. Mills Avenue Suite 601, Room 691AA Tempe, Arizona 85281, US
Inventeurs :
FIRTH, Peter Alexander; US
HOLMAN, Zachary; US
Mandataire :
RICE, Phillip; US
BAI, Ari; US
Données relatives à la priorité :
62/344,28301.06.2016US
Titre (EN) SYSTEM AND METHODS FOR DEPOSITION SPRAY OF PARTICULATE COATINGS
(FR) SYSTÈME ET PROCÉDÉS DE PULVÉRISATION PAR DÉPÔT DE REVÊTEMENTS PARTICULAIRES
Abrégé :
(EN) A particle deposition system can have a particle source providing a nanomaterial at a controlled rate and a gas distribution system coupled with the particle source and operable to receive the nanomaterial aerosol. A high pressure chamber can be coupled with the gas distribution system, and a nozzle can be disposed between the high pressure chamber and a low pressure chamber. The nozzle can have a nozzle opening allowing fluidic communication of a nanomaterial aerosol between the high pressure chamber and the low pressure chamber and the opening can have a length exceeding a width.
(FR) L’invention concerne un système de dépôt de particules pouvant comprendre une source de particules fournissant un nanomatériau selon une vitesse commandée et un système de distribution de gaz raccordé à la source de particules et actionnable pour recevoir l'aérosol de nanomatériau. Une chambre haute pression peut être raccordée au système de distribution de gaz, et une buse peut être disposée entre la chambre haute pression et une chambre basse pression. La buse peut présenter une ouverture de buse permettant la communication fluidique d'un aérosol de nanomatériau entre la chambre haute pression et la chambre basse pression et l'ouverture peut présenter une longueur dépassant une largeur.
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
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Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)