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1. (WO2017210336) ÉLECTRODES CONTENANT DES PARTICULES DE SILICIUM MODIFIÉES ET PROCÉDÉS ASSOCIÉS
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N° de publication :    WO/2017/210336    N° de la demande internationale :    PCT/US2017/035272
Date de publication : 07.12.2017 Date de dépôt international : 31.05.2017
CIB :
H01M 10/052 (2010.01), H01M 10/0562 (2010.01)
Déposants : THE REGENTS OF THE UNIVERSITY OF CALIFORNIA [US/US]; 1111 Franklin Street, Twelfth Floor Oakland, California 94607 (US)
Inventeurs : MANGOLINI, Lorenzo; (US).
ZHONG, Lanlan; (US)
Mandataire : SCHEER, Bradley W.; (US).
BEEKMAN, Marvin, L., USPTO Reg. No. 38,377; (US).
BLACK, David W., USPTO Reg. No. 42,331; (US).
GOULD, James R., USPTO Reg. No. 72,086; (US).
PERDOK, Monique M., USPTO Reg. No. 42,989; (US).
WOO, Justin N., USPTO Reg. No. 62,686; (US)
Données relatives à la priorité :
62/343,702 31.05.2016 US
Titre (EN) MODIFIED SILICON PARTICLE ELECTRODES AND METHODS
(FR) ÉLECTRODES CONTENANT DES PARTICULES DE SILICIUM MODIFIÉES ET PROCÉDÉS ASSOCIÉS
Abrégé : front page image
(EN)A silicon and tin based micro-structured material and methods are shown. In one example, the silicon and tin based micro-structured material is used as an electrode in a battery, such as a lithium ion battery.
(FR)L'invention concerne un matériau microstructuré à base de silicium et d’étain et des procédés associés. Dans un exemple, ce matériau microstructuré à base de silicium et d’étain est utilisé comme électrode dans une batterie, telle qu'une batterie au lithium-ion.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)