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1. (WO2017210281) SYSTÈME D'INSPECTION DES NANO-DÉFAUTS D'UNE PLAQUETTE EN CHAMP SOMBRE À L'AIDE D'UN FAISCEAU SINGULIER
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication :    WO/2017/210281    N° de la demande internationale :    PCT/US2017/035187
Date de publication : 07.12.2017 Date de dépôt international : 31.05.2017
CIB :
G01N 21/88 (2006.01), G01B 11/02 (2006.01), G01N 21/00 (2006.01), G01N 21/84 (2006.01)
Déposants : TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; World Headquarters Akasaka Biz Tower 3-1, Akasaka 5-chome Minato-ku, 107-6325 (JP).
TIAN, Xinkang [US/US]; (US) (US only).
MENG, Ching-Ling [US/US]; (US) (US only)
Inventeurs : TIAN, Xinkang; (US).
MENG, Ching-Ling; (US)
Mandataire : SIGNORE, Philippe, J.C.; (US).
MASON, J., Derek; (US)
Données relatives à la priorité :
62/344,575 02.06.2016 US
Titre (EN) DARK FIELD WAFER NANO-DEFECT INSPECTION SYSTEM WITH A SINGULAR BEAM
(FR) SYSTÈME D'INSPECTION DES NANO-DÉFAUTS D'UNE PLAQUETTE EN CHAMP SOMBRE À L'AIDE D'UN FAISCEAU SINGULIER
Abrégé : front page image
(EN)Provided is a method, system, and apparatus for inspecting a substrate. The method comprises illuminating the substrate with a singular laser beam, the singular laser beam forming an illuminated spot on the substrate and a bright fringe at a surface of the substrate, the bright fringe extending over at least a portion of the illuminated spot, and detecting, by an optical detection system, scattered light from nano-defects present on the substrate within the illuminated spot.
(FR)L'invention concerne un procédé, un système et un appareil permettant d'inspecter un substrat. Le procédé consiste à éclairer le substrat à l'aide d'un faisceau laser singulier, ledit faisceau laser singulier formant un point éclairé sur le substrat et une frange claire au niveau d'une surface du substrat, ladite frange claire s'étendant sur au moins une partie du point éclairé, et à détecter, par un système de détection optique, la lumière diffusée à partir de nano-défauts présents sur le substrat à l'intérieur du point éclairé.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)