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1. (WO2017210141) PROCÉDÉ DE TRANSFERT D'IMAGES DE PAROIS LATÉRALES

Pub. No.:    WO/2017/210141    International Application No.:    PCT/US2017/034868
Publication Date: Fri Dec 08 00:59:59 CET 2017 International Filing Date: Sat May 27 01:59:59 CEST 2017
IPC: H01L 21/027
H01L 21/3065
H01L 21/311
H01L 21/3213
G03F 7/20
Applicants: TOKYO ELECTRON LIMITED
TOKYO ELECTRON U.S. HOLDINGS, INC.
Inventors: RANJAN, Alok
SHERPA, Sonam D.
Title: PROCÉDÉ DE TRANSFERT D'IMAGES DE PAROIS LATÉRALES
Abstract:
Selon un mode de réalisation, un procédé de traitement de substrat consiste à utiliser un substrat contenant des éléments surélevés de Si, à déposer un film conforme sur les éléments surélevés de Si, et à réaliser un processus de gravure d'entretoise qui élimine les parties horizontales du film conforme tout en laissant sensiblement les parties verticales du film conforme pour former des entretoises de paroi latérale sur les éléments surélevés de Si, la réalisation consistant a) à exposer le substrat à un premier gaz de traitement excité par plasma composé de H2 gazeux et éventuellement d'un gaz inerte, et b) à exposer le substrat à un second gaz de traitement excité par plasma contenant i) NF3, O2, H2, et Ar, ii) NF3, O2, et H2, iii) NF3 et O2, NF3, O2, et Ar, iv) NF3 et H2, ou v) NF3, H2, et Ar. Le procédé consiste en outre à éliminer les éléments surélevés de Si tout en maintenant les entretoises de paroi latérale sur le substrat. Le retrait peut être effectué à l'aide des étapes a) et b).