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1. (WO2017210108) SYSTÈME ET PROCÉDÉS D'ESSAI DE VIEILLISSEMENT POUR SEMI-CONDUCTEURS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication :    WO/2017/210108    N° de la demande internationale :    PCT/US2017/034647
Date de publication : 07.12.2017 Date de dépôt international : 26.05.2017
CIB :
G01R 31/28 (2006.01), G01R 31/26 (2014.01), G01R 1/04 (2006.01), G01R 31/00 (2006.01), G01R 31/30 (2006.01), G05D 23/00 (2006.01)
Déposants : KES SYSTEMS, INC. [US/US]; 1407 W. Drivers Way Tempe, AZ 85284 (US)
Inventeurs : BALLSON, Gopal; (US).
KILLION, Jessie; (US)
Mandataire : CHURCHILL, Jr., Raymond B.; (US).
BOTOS, Richard, J.; (US).
RASKA, William, G.; (US)
Données relatives à la priorité :
62/344,790 02.06.2016 US
Titre (EN) SYSTEM AND METHODS FOR SEMICONDUCTOR BURN-IN TEST
(FR) SYSTÈME ET PROCÉDÉS D'ESSAI DE VIEILLISSEMENT POUR SEMI-CONDUCTEURS
Abrégé : front page image
(EN)Apparatus and methods provide burn-in testing for semiconductors. A burn-in test apparatus (1) may include an outer housing forming an aperture with a test socket to receive a tile or wafer. The tile or wafer may include semiconductor device(s) for burn-in testing. The apparatus may include a thermal control unit to regulate testing temperature and/or drive electronics for powering the socket. The apparatus may include an inlet for gas pressure from a pressure source. The apparatus may include a lid covering the aperture when a tile/wafer is at the test socket. The apparatus may include a seal carrier in the aperture to form a pressure chamber with a surface of the tile. The pressure chamber may pneumatically couple with the inlet. Pressure of the pressure chamber may act upon the tile/wafer to urge a device under testing into thermal and/or electrical contact with the socket for conducting the burn-in test.
(FR)La présente invention concerne un appareil et des procédés pour réaliser des essais de vieillissement pour des semi-conducteurs. Un appareil d'essai de vieillissement (1) peut comprendre un logement extérieur qui forme une ouverture avec un support d'essai pour recevoir un carreau ou une tranche. Le carreau ou la tranche peut comprendre un ou plusieurs dispositifs à semi-conducteur pour des essais de vieillissement. L'appareil peut comprendre une unité de commande thermique pour réguler la température d'essai et/ou des composants électroniques d'excitation pour alimenter le support. L'appareil peut comprendre une entrée pour fournir une pression de gaz à partir d'une source de pression. L'appareil peut comprendre un couvercle qui couvre l'ouverture lorsqu'un carreau/une tranche est sur le support d'essai. L'appareil peut comprendre un porte-joint d'étanchéité dans l'ouverture pour former une chambre de pression avec une surface du carreau. La chambre de pression peut être accouplée pneumatiquement à l'entrée. La pression de la chambre de pression peut agir sur le carreau/la tranche pour pousser un dispositif à l'essai en contact thermique et/ou électrique avec le support pour effectuer l'essai de vieillissement.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)