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1. (WO2017209441) DISPOSITIF DE DÉTECTION D'EMPREINTE DIGITALE, DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE COMPRENANT LE MÊME DISPOSITIF DE DÉTECTION, ET PROCÉDÉ ET APPAREIL POUR FABRIQUER LE MÊME DISPOSITIF DE DÉTECTION
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N° de publication :    WO/2017/209441    N° de la demande internationale :    PCT/KR2017/005447
Date de publication : 07.12.2017 Date de dépôt international : 25.05.2017
CIB :
G06K 9/00 (2006.01), H03K 17/96 (2006.01)
Déposants : LG INNOTEK CO., LTD. [KR/KR]; 98, Huam-ro Jung-gu Seoul 04637 (KR)
Inventeurs : JANG, Sin Ae; (KR).
EOM, Jun Phill; (KR).
JEON, Eun Jung; (KR)
Mandataire : LEE, Seung Chan; (KR)
Données relatives à la priorité :
10-2016-0067930 01.06.2016 KR
Titre (EN) FINGERPRINT SENSING DEVICE, ELECTRONIC DEVICE COMPRISING SAME SENSING DEVICE, AND METHOD AND APPARATUS FOR MANUFACTURING SAME SENSING DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE DÉTECTION D'EMPREINTE DIGITALE, DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE COMPRENANT LE MÊME DISPOSITIF DE DÉTECTION, ET PROCÉDÉ ET APPAREIL POUR FABRIQUER LE MÊME DISPOSITIF DE DÉTECTION
(KO) 지문 센싱 장치, 이 장치를 포함하는 전자 기기, 이 장치의 제조 방법 및 장치
Abrégé : front page image
(EN)A fingerprint sensing device of an embodiment comprises: a base substrate; a fingerprint sensor portion disposed on the base substrate; and a functional layer disposed on the fingerprint sensor portion, wherein the thickness deviation between an edge and the center of the functional layer is within 1 ㎛ to 3 ㎛.
(FR)Un dispositif de détection d'empreinte digitale d'un mode de réalisation comprend : un substrat de base; une partie capteur d'empreinte digitale disposée sur le substrat de base; et une couche fonctionnelle disposée sur la partie capteur d'empreinte digitale, l'écart d'épaisseur entre un bord et le centre de la couche fonctionnelle étant compris entre 1 µm et 3 µm.
(KO)실시 예의 지문 센싱 장치는 베이스 기판과, 베이스 기판 위에 배치된 지문 센서부 및 지문 센서부 위에 배치되는 기능층을 포함하고, 기능층의 가장자리와 중심 간의 두께 편차는 1 ㎛ 내지 3 ㎛ 이내이다.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : coréen (KO)
Langue de dépôt : coréen (KO)