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1. (WO2017209330) PROCÉDÉ D'EXPOSITION AU LASER PERMETTANT DE FORMER UNE LIGNE DOUBLE, APPAREIL D'EXPOSITION, ET PROCÉDÉ ET APPAREIL POUR FABRIQUER UN MOTIF FIN PRÉSENTANT UNE LIGNE DOUBLE À L'AIDE DU PROCÉDÉ D'EXPOSITION AU LASER
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N° de publication : WO/2017/209330 N° de la demande internationale : PCT/KR2016/005958
Date de publication : 07.12.2017 Date de dépôt international : 07.06.2016
CIB :
G03F 7/20 (2006.01) ,G03F 1/80 (2012.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20
Exposition; Appareillages à cet effet
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
1
Originaux pour la production par voie photomécanique de surfaces texturées, p.ex. masques, photomasques ou réticules; Masques vierges ou pellicules à cet effet; Réceptacles spécialement adaptés à ces originaux; Leur préparation
68
Procédés de préparation non couverts par les groupes G03F1/20-G03F1/50105
80
Attaque chimique
Déposants :
한국표준과학연구원 KOREA RESEARCH INSTITUTE OF STANDARDS AND SCIENCE [KR/KR]; 대전시 유성구 가정로 267 267 Gajeong-ro Yuseong-gu Daejeon 34113, KR
Inventeurs :
이혁교 RHEE, Hyug-Gyo; KR
김영광 KIM, Younggwang; KR
김영식 GHIM, Young Sik; KR
양호순 YANG, Ho Soon; KR
이윤우 LEE, Yun Woo; KR
Mandataire :
특허법인 아이퍼스 IPUS PATENT & LAW FIRM; 서울시 강남구 논현로85길 58 백림빌딩 6층 6th floor, Baeklim Building 58, Nonhyeon-ro 85-gil Gangnam-Gu Seoul 06234, KR
Données relatives à la priorité :
10-2016-006928403.06.2016KR
Titre (EN) LASER EXPOSURE METHOD CAPABLE OF FORMING DUAL LINE, EXPOSURE APPARATUS, AND METHOD AND APPARATUS FOR MANUFACTURING FINE PATTERN HAVING DUAL LINE BY USING LASER EXPOSURE METHOD
(FR) PROCÉDÉ D'EXPOSITION AU LASER PERMETTANT DE FORMER UNE LIGNE DOUBLE, APPAREIL D'EXPOSITION, ET PROCÉDÉ ET APPAREIL POUR FABRIQUER UN MOTIF FIN PRÉSENTANT UNE LIGNE DOUBLE À L'AIDE DU PROCÉDÉ D'EXPOSITION AU LASER
(KO) 듀얼라인 생성이 가능한 레이저 노광법, 노광장치, 그 레이저 노광법을 이용한 듀얼 라인을 갖는 미세패턴 제조방법 및 제조장치
Abrégé :
(EN) The present invention relates to a laser exposure method capable of forming a dual line, an exposure apparatus, and a method and an apparatus for manufacturing a fine pattern having a dual line by using the laser exposure method. More specifically, the laser exposure method capable of forming a dual line comprises the steps of: emitting a laser beam having a specific width and a specific amount of light at a photosensitive film coated on a substrate; removing the photosensitive film of a portion at which the laser beam is emitted; forming protrusions protruding upward at both ends of the surroundings of the removed photosensitive film; forming an oxide film on each of upper surfaces of the protrusions on both sides; and etching the photosensitive film so as to form a dual line.
(FR) La présente invention concerne un procédé d'exposition au laser permettant de former une ligne double, un appareil d'exposition, et un procédé et un appareil pour fabriquer un motif fin présentant une ligne double à l'aide du procédé d'exposition au laser. Plus particulièrement, le procédé d'exposition au laser permettant de former une ligne double consiste : à émettre un faisceau laser présentant une largeur spécifique et une quantité spécifique de lumière au niveau d'un film photosensible revêtu sur un substrat ; à éliminer le film photosensible d'une partie au niveau de laquelle le faisceau laser est émis ; à former des protubérances saillant vers le haut aux deux extrémités des contours du film photosensible éliminé ; à former un film d'oxyde sur chacune des surfaces supérieures des protubérances des deux côtés ; et à graver le film photosensible de manière à former une ligne double.
(KO) 본 발명은 듀얼라인 생성이 가능한 레이저 노광법, 노광장치, 그레이저 노광법을 이용한 듀얼 라인을 갖는 미세패턴 제조방법 및 제조장치에 대한 것이다. 보다 상세하게는 레이저 노광법에 있어서, 특정폭과, 특정광량을 갖는 레이저빔이 기판상에 코팅된 감광막으로 조사되는 단계; 상기 레이저빔이 조사된 부분의 감광막이 제거되는 단계; 제거된 감광막의 주변 양단부에 상부로 돌출된 돌출단이 형성되는 단계; 양측의 상기 돌출단 상부면 각각에 산화막이 생성되는 단계; 및 상기 감광막을 에칭하여 듀얼라인이 생성되는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 듀얼라인 생성이 가능한 레이저 노광법에 관한 것이다.
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Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : coréen (KO)
Langue de dépôt : coréen (KO)