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1. (WO2017209284) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN CORPS D'AFFICHAGE, INTERMÉDIAIRE D'AFFICHAGE ET CORPS D'AFFICHAGE
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N° de publication : WO/2017/209284 N° de la demande internationale : PCT/JP2017/020630
Date de publication : 07.12.2017 Date de dépôt international : 02.06.2017
CIB :
G02B 5/18 (2006.01) ,B32B 37/14 (2006.01) ,B41M 3/14 (2006.01) ,B42D 25/328 (2014.01) ,G02B 3/00 (2006.01) ,G03F 7/004 (2006.01) ,G03F 7/34 (2006.01)
G PHYSIQUE
02
OPTIQUE
B
ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
5
Eléments optiques autres que les lentilles
18
Grilles de diffraction
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
32
PRODUITS STRATIFIÉS
B
PRODUITS STRATIFIÉS, c. à d. FAITS DE PLUSIEURS COUCHES DE FORME PLANE OU NON PLANE, p.ex. CELLULAIRE OU EN NID D'ABEILLES
37
Procédés ou dispositifs pour la stratification, p.ex. par polymérisation ou par liaison à l'aide d'ultrasons
14
caractérisés par les propriétés des couches
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
41
IMPRIMERIE; LIGNARDS; MACHINES À ÉCRIRE; TIMBRES
M
PROCÉDÉS D'IMPRESSION, DE REPRODUCTION, DE MARQUAGE OU DE COPIE; IMPRESSION EN COULEUR
3
Procédés d'impression pour des travaux imprimés d'un genre particulier, p.ex. motifs
14
Impression de papiers-valeurs
[IPC code unknown for B42D 25/328]
G PHYSIQUE
02
OPTIQUE
B
ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
3
Lentilles simples ou composées
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004
Matériaux photosensibles
04
Chromates
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
26
Traitement des matériaux photosensibles; Appareillages à cet effet
34
Dépouillement selon l'image par transfert sélectif, p.ex. par arrachement
Déposants :
凸版印刷株式会社 TOPPAN PRINTING CO., LTD. [JP/JP]; 東京都台東区台東1丁目5番1号 5-1, Taito 1-chome, Taito-ku, Tokyo 1100016, JP
Inventeurs :
貝塚 朋芳 KAIZUKA, Tomoyoshi; JP
Mandataire :
恩田 誠 ONDA, Makoto; JP
恩田 博宣 ONDA, Hironori; JP
Données relatives à la priorité :
2016-11123102.06.2016JP
Titre (EN) METHOD FOR MANUFACTURING DISPLAY BODY, DISPLAY INTERMEDIATE, AND DISPLAY BODY
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN CORPS D'AFFICHAGE, INTERMÉDIAIRE D'AFFICHAGE ET CORPS D'AFFICHAGE
(JA) 表示体の製造方法、表示中間体、および、表示体
Abrégé :
(EN) A method for manufacturing a display body includes: positioning a layer to be patterned and a resin layer that includes resin to be cured by irradiation with energy rays so as to be in contact with each other on the surface of a substrate; forming a plurality of cured parts by curing parts of the resin layer by irradiating the resin layer, in the state of contact with the layer to be patterned, with energy rays, increasing the bonding strength of the cured parts and layer to be patterned to be greater than the bonding strength of the surface and the layer to be patterned, and reducing the bonding strength of the uncured parts of the resin layer and the layer to be patterned to be lower than the bonding strength of the surface and the layer to be patterned; and, by separating the resin layer from the layer to be patterned, separating parts of the layer to be patterned overlapping with the cured parts in a plane view of the surface from the substrate along with the resin layer.
(FR) La présente invention a trait à un procédé de fabrication d'un corps d'affichage, lequel consiste : à positionner une couche à imprimer et une couche de résine qui comprend de la résine à durcir par irradiation avec des rayons d'énergie afin d'être en contact l'une avec l'autre sur la surface d'un substrat ; à former une pluralité de parties durcies par durcissement de parties de la couche de résine par irradiation de la couche de résine, dans l'état de contact avec la couche à imprimer, avec des rayons d'énergie, l'augmentation de la force de liaison des parties durcies et de la couche à imprimer devant être supérieure à la résistance de liaison de la surface et de la couche à imprimer, et la réduction de la force de liaison des parties non durcies de la couche de résine et de la couche à imprimer devant être inférieure à la force de liaison de la surface et de la couche à imprimer ; et, en séparant la couche de résine de la couche à imprimer, à séparer des parties de la couche à imprimer se chevauchant avec les parties durcies dans une vue en plan de la surface à partir du substrat conjointement avec la couche de résine.
(JA) 表示体の製造方法は、基材の表面に、被パターニング層と、エネルギー線の照射によって硬化する樹脂を含む樹脂層とを、互いに接触させるように順に位置させることと、被パターニング層に接触した状態の樹脂層にエネルギー線を照射することによって、樹脂層の一部を硬化させて複数の硬化部を形成し、硬化部と被パターニング層との接着強度を、表面と被パターニング層との接着強度よりも高くし、かつ、樹脂層における未硬化部と被パターニング層との接着強度を、表面と被パターニング層との接着強度よりも低くすることと、被パターニング層から樹脂層を離すことによって、表面と対向する平面視において被パターニング層のなかで硬化部と重なる部分を、樹脂層とともに基材から離すこととを含む。
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)